硅片清洗超純水設(shè)備/旭能環(huán)保/生產(chǎn)廠家
高純度:硅片表面極為敏感,水中的雜質(zhì)離子如鈣、鎂、鐵、氯、硫酸根等會(huì)在硅片表面吸附或形成化合物,影響硅片的電學(xué)性能和后續(xù)工藝。通常要求超純水的電阻率達(dá)到 18.2MΩ?cm 以上,幾乎不含任何離子雜質(zhì)。
低顆粒度:硅片制造工藝不斷向精細(xì)化發(fā)展,微小顆粒會(huì)導(dǎo)致光刻圖案失真、短路等問(wèn)題。因此,用于硅片清洗的超純水需要嚴(yán)格控制顆粒數(shù)量,一般要求每升水中大于 0.1μm 的顆粒數(shù)不超過(guò) 100 個(gè)。
低微生物含量:微生物在硅片表面生長(zhǎng)繁殖會(huì)改變硅片表面化學(xué)性質(zhì),還可能釋放出代謝產(chǎn)物污染硅片。所以,超純水的微生物指標(biāo)要求**,通常每毫升水中細(xì)菌總數(shù)不超過(guò) 1CFU。
低有機(jī)物含量:有機(jī)物可能在硅片表面形成有機(jī)膜,影響硅片與其他材料的粘附性和化學(xué)反應(yīng)活性。一般要求超純水中的總有機(jī)碳(TOC)含量低于 10ppb 硅片清洗超純水設(shè)備/旭能環(huán)保/生產(chǎn)廠家。