原料氣氧濃度:<>
原料氣壓力:0.3MPa~0.7MPa
殘余物指標(biāo):
氧含量:≤1ppm
氫含量≤1000ppm(氫氣純化項(xiàng)目除外)
含塵粒徑:≤0.01μm
常壓露點(diǎn):≤-60℃
氫氣和少于2%氧含量的普氮混合后進(jìn)入純化裝置除氧器,過量的氫和少量的氧在鈀觸媒催化劑的作用下充分反應(yīng)生成水(2H2+O2=2H2O),殘余氧含量降到5ppm以下;
脫氧后氮?dú)饨?jīng)冷卻器與冷干機(jī)的初步脫水后進(jìn)入干燥器,內(nèi)裝分子篩的干燥器配置兩臺(tái),其中一臺(tái)進(jìn)行吸附干燥,另一臺(tái)則通過高溫將已經(jīng)吸附飽和的干燥器進(jìn)行再生備用,最終氮?dú)獬郝饵c(diǎn)可低于-60℃;
純化后的氣體經(jīng)純氮罐后輸送至用氣點(diǎn)。
氫氣與氮?dú)馔瑫r(shí)進(jìn)入混合罐進(jìn)行充分混合,使氮?dú)庵械难跖c氫充分接觸,在進(jìn)入裝填鈀催化劑的除氧器后,氧氫充分反應(yīng)生成水,從而將氧除去。裝置對(duì)除氧器的工作時(shí)設(shè)置低溫報(bào)警,低壓報(bào)警,并對(duì)最終的氮?dú)饧兌仍O(shè)置純度報(bào)警,從而對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行安全有效的監(jiān)控。
適用范圍
特別適用于氮、氫氣氛熱處理行業(yè),即需要高純氮?dú)夂驮试S適量的氫,能使產(chǎn)品更光亮。