微膠囊研磨均質(zhì)機(jī)

微膠囊研磨均質(zhì)機(jī)，微膠囊膠體磨，微膠囊均質(zhì)乳化機(jī)，微膠囊高壓均質(zhì)機(jī)，微膠囊乳化機(jī)，微膠囊噴霧干燥機(jī)，微膠囊乳化均質(zhì)機(jī)

噴干法是常用和成本低廉的微膠囊化方法。該法微膠囊造粒的原理是：首先制備乳化分散相，即把心材分散在已液化的壁囊材中混合形成溶液，后加入乳化劑，熱分散體系經(jīng)均質(zhì)變成水包油型乳狀液，后進(jìn)行噴霧干燥即可。

噴霧干燥法的工藝流程如下所示：
囊 材和囊心物質(zhì)→混合→均質(zhì)、乳化→乳化液→在熱空氣中霧化和干燥→脫水→得微膠囊產(chǎn)品
 
噴霧干燥的過程主要包括4個(gè)部分：預(yù)處理及乳化部分、均質(zhì)部分、噴霧干燥。
預(yù)處理過程主要是將芯料，如香科、油脂等，與壁材溶液混合(壁材一般是食品級(jí)的膠類，如明膠、植物膠、變性淀粉、糊精、或非膠類蛋白質(zhì))，然后加入乳化劑，經(jīng)高剪切乳化機(jī)或膠體磨均質(zhì)后形成水包油的乳化必溶液，此溶液由泵送人噴霧干燥室，溶液經(jīng)霧化后形成微小的球狀顆粒，顆粒的外壁為水溶性物料，這就說明了噴霧干燥的產(chǎn)品都是水溶性的。盡管噴霧干燥的過程處中高溫，但在造粒過程中外層水分快速蒸發(fā)時(shí)，芯材的溫度可保持在100℃以下，物料受熱時(shí)間一般為幾秒鐘。這種方法的優(yōu)點(diǎn)是能處理許多熱不穩(wěn)定的物料、但由于有些物料、如香精，可能會(huì)有20～30種不同的成分(酒精、乙醛、脂類、酮類)其蒸發(fā)溫度在38℃～180℃，而低蒸發(fā)點(diǎn)的芳香物質(zhì)在干燥過程中就有可能損失。

制備微膠囊的典型工藝就如上所示：
配料——乳化——均質(zhì)——噴霧干燥。

GMD2000模塊主要由兩層分散頭構(gòu)成，工作時(shí)，物料通過投料口進(jìn)入分散腔，首先到達(dá)層分散頭進(jìn)行處理，由于馬達(dá)帶動(dòng)轉(zhuǎn)子齒列高速運(yùn)轉(zhuǎn)，產(chǎn)生渦流和離心力效應(yīng)使得物料軸向吸入分散頭，然后沿著定-轉(zhuǎn)子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用，之后在轉(zhuǎn)子齒列與定子齒列的強(qiáng)力剪切間隙中物料被強(qiáng)烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時(shí)完成第二次剪切，接著流出的物料進(jìn)入第二層分散頭腔體，對(duì)處理過的物料再次進(jìn)行剪切（原理同上），從而確?；旌戏稚@得很窄的粒徑分布，獲得更小的液滴和顆粒，生成的混合液穩(wěn)定性更好，滿足疫苗生產(chǎn)對(duì)于粒徑的要求。

GMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?/span>在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

GMD2000微膠囊研磨均質(zhì)機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

的特點(diǎn)：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無菌級(jí)
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理