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詳細(xì)介紹
賽默飛紫外分光光度計(jì)Evolution 201 220采用了賽默飛世爾科技科研技術(shù)，以其的雙光束光路設(shè)計(jì)、*的INSIGHT用戶軟件、完備而功能強(qiáng)大的光譜附件，為用戶提供豐富的光譜分析功能，全面的定量分析和動(dòng)力學(xué)分析解決方案，并可輕松應(yīng)對(duì)挑戰(zhàn)性樣品，如散射物質(zhì)的透射性能分析，反射測(cè)量等。Evolution 200系列產(chǎn)品提供本地控制和計(jì)算機(jī)控制兩種配置，也可以把兩種控制模式結(jié)合起來(lái)，其均使用相同的INSIGHT軟件，使儀器始終都處于的狀態(tài)，提供便捷和多樣化的分析功能。2011年7月，產(chǎn)品榮膺被譽(yù)為科技界“創(chuàng)新奧斯卡”的R&D 100大獎(jiǎng)。
特點(diǎn)：
1.主頁(yè)面把測(cè)試和使用方法顯示在*個(gè)頁(yè)面，方便瀏覽和使用。
2.用CUE 軟件建立自己的分析方法，CUE是一個(gè)使用簡(jiǎn)單、一步一步的類似流程圖的工具，可以為分析制定完整的多步驟分析流程。適應(yīng)所有的QA/QC應(yīng)用程序，具有豐富的光譜分析功能，能夠全面的定量分析解決方案，可自動(dòng)顯示、保存和輸出結(jié)果的功能。
3.一整套的樣品池轉(zhuǎn)換器，溫度控制和監(jiān)測(cè)設(shè)備，光纖實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)，以及用來(lái)測(cè)量固體樣品反射和透射的附件，拓展分光光度計(jì)的功能，提升了儀器的價(jià)值。
4.高性能，為用戶體驗(yàn)而設(shè)計(jì)。1.0nm的分辨率，雙光束（Double-Beam）配置都能提供zui準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)；光學(xué)匯聚技術(shù)；可屏蔽的樣品檢測(cè)器；樣品倉(cāng)不受環(huán)境光線影響，測(cè)量過(guò)程中可打開(kāi)，配有開(kāi)啟按鈕的滑動(dòng)樣品倉(cāng)開(kāi)啟門。
5.便捷的手控功能，采用觸摸屏的內(nèi)置計(jì)算機(jī)可用手指進(jìn)行常規(guī)操作。
6.觸發(fā)信號(hào)連接幫助您與外界進(jìn)行互動(dòng)。
7.USB接口可外接計(jì)算機(jī)，從而通過(guò)INSIGHT軟件進(jìn)行儀器控制、數(shù)據(jù)分析、存儲(chǔ)。
8.單色儀在保證波長(zhǎng)準(zhǔn)確前提下，實(shí)現(xiàn)快速掃描功能，掃描速度從<1到6,000nm/min。
9.汞燈端口可提供全波長(zhǎng)范圍的波長(zhǎng)準(zhǔn)度和波長(zhǎng)再現(xiàn)性的校準(zhǔn)。
10.閃爍氙燈光源僅在進(jìn)行測(cè)量的時(shí)候發(fā)出強(qiáng)烈的閃光，能夠保證持續(xù)工作3年，具有使用成本低廉，維修間隔周期長(zhǎng)，在可見(jiàn)光區(qū)和紫外區(qū)都具有很高強(qiáng)度，不需要預(yù)熱的優(yōu)點(diǎn)。
11.INSIGHT軟件：簡(jiǎn)單好用，成熟精深,具有的多功能和靈活性：掃描測(cè)量；固定波長(zhǎng)測(cè)量；定量分析；動(dòng)力學(xué)分析；
12.可本機(jī)控制、計(jì)算機(jī)控制、或者把本機(jī)控制和計(jì)算機(jī)控制結(jié)合起來(lái)。
13.精準(zhǔn)的溫度控制。
14.系統(tǒng)性能的可靠保證，校準(zhǔn)評(píng)價(jià)圓盤（CVC）能夠?yàn)槌Ｒ?guī)的儀器測(cè)試提供可溯源的標(biāo)準(zhǔn)，能自動(dòng)測(cè)試性能。
15.積分球可分析散射物質(zhì)的透射性能、反射性能。
技術(shù)參數(shù)：
| Evolution 201紫外分光光度計(jì) | Evolution 220紫外分光光度計(jì) | |
| 光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì) | 雙光束配有樣品和參比池架位置；Czerny-Turner單色儀 | 雙光束配有樣品和參比池架位置；AFBG技術(shù)；Czerny-Turner單色儀 |
| 光譜帶寬 | 1.0 nm | 可變：1 nm或者2 nm；AFBG微量池優(yōu)化；AFBG光纖模塊優(yōu)化；AFBG材料測(cè)試優(yōu)化 |
| 光源 | 閃爍式氙燈，質(zhì)保3年（一般可用5年） | |
| 檢測(cè)器 | 雙硅光電二極管 | |
| 掃描坐標(biāo)模式 | 吸光度Abs，透射率T%，反射率R%， Kubelka-Munklog（1/R），log（Abs），Abs*Factor，強(qiáng)度Intensity | |
| 分辨率 | >1.6（峰-谷比；甲苯正己烷） | |
| 波長(zhǎng)范圍 | 190到1100 nm | |
| 波長(zhǎng)準(zhǔn)度 | ±0.8 nm（全量程190到1100 nm）±0.5 nm（546.11 nm汞線） | |
| 重復(fù)性 | 0.1 nm（546.11 nm汞線， 10次測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)偏差） | |
| 掃描速度 | < 1到6000 nm/min，可調(diào)節(jié) | |
| 數(shù)據(jù)間隔 | 10，5，2，1.0，0.5，0.2，0.1 nm | |
| 吸光度范圍 | > 3.5 A | |
| 吸光度顯示范圍 | -0.3到4.0 B1115A | |
| 儀器準(zhǔn)度 | 0.5 A：± 0.004 A ，1 A：± 0.006 A ， 2 A：± 0.010 A 依照NIST/NPL，使用中等強(qiáng)度濾光片，在440 nm測(cè)量 | |
| 準(zhǔn)度—密封溶液（EP/BP/TGA） | ± 0.010 A（60 mg/L K2Cr2O7） | |
| 噪聲 | 0 A： 0.00015 A ，1 A： 0.00050 A ，2 A： 0.00080 A ，260 nm，1.0 nm SBW，RMS | |
| 漂移（穩(wěn)定性） | < 0.0005 A/hr ，500 nm，1.0 nm SBW，1小時(shí)預(yù)熱 | |
| 雜散光 | KCl，198 nm： 1% T ；Nal，220 nm： 0.05% T ；NaNO2，340 nm： 0.05% T | |
| 基線平直度 | ± 0.0010 A ，200到800 nm，1.0 nm SBW，平滑處理 | |
| 鍵盤 | 膜密封 | |
| 本機(jī)控制顯示 | 觸摸屏LCD面板；800×480；17.8 cm（對(duì)角線）屏幕 | |
| 本機(jī)控制操作系統(tǒng) | 內(nèi)置微軟Windows XP | |
| 尺寸 | 62.2 cm長(zhǎng) ×48.6 cm寬 × 27.9 cm高 | |
| 重量 | 14.4公斤 | |
| 電源 | 100-240伏，50-60Hz，自動(dòng)選擇zui大功率150瓦 | |
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