氦檢質(zhì)譜漏儀的原理
氦檢質(zhì)譜漏儀可查找漏點(diǎn)位置并測(cè)定漏率（通過(guò)漏孔的氣體流量）。因此，氦質(zhì)譜檢漏儀是一臺(tái)氦流量計(jì)。
檢漏儀在工作過(guò)程中首先是對(duì)試驗(yàn)對(duì)象進(jìn)行抽真空，來(lái)形成壓差使外部氣體穿過(guò)漏孔進(jìn)入檢漏儀。檢漏儀利用內(nèi)置氦質(zhì)譜儀測(cè)量進(jìn)入檢漏儀氣體氦分壓并將測(cè)量結(jié)果轉(zhuǎn)換為漏率顯示。顯示值單位一般采用流量單位。
重要技術(shù)規(guī)范
測(cè)量范圍和響應(yīng)時(shí)間是檢漏儀的兩個(gè)重要的參數(shù)。
測(cè)量范圍用小和可檢漏率限定。
小可檢漏率用靈敏的測(cè)量范圍系統(tǒng)的漂移與噪聲之和定義。每分鐘內(nèi)系統(tǒng)噪聲幅度和零點(diǎn)漂移相加就可以得到低可檢漏率。檢漏儀的零點(diǎn)漂移量非常小，所以一般僅采用噪聲幅度就可以確定檢漏儀的小可檢漏率?？蓹z漏率依賴于所采用的檢漏方法，利用逆流法和分流法（參見下面的說(shuō)明）可以測(cè)量非常大的漏率。此外，檢漏儀內(nèi)部的多級(jí)高阻抗輸入開關(guān)放大器也能提高檢漏儀測(cè)量大漏的能力。在實(shí)際的檢漏操作過(guò)程中特別是查找漏點(diǎn)的時(shí)候，響應(yīng)時(shí)間十分重要。該時(shí)間指從用氦氣噴吹試驗(yàn)對(duì)象直到檢漏儀顯示測(cè)量值所用的時(shí)間。電子信號(hào)調(diào)節(jié)電路系統(tǒng)的響應(yīng)時(shí)間是總響應(yīng)時(shí)間的重要組成部分。對(duì)于檢漏儀來(lái)說(shuō)，電氣系統(tǒng)的響應(yīng)時(shí)間遠(yuǎn)小于1秒。
檢漏設(shè)備對(duì)氦的有效抽速?zèng)Q定了氦氣通過(guò)漏孔進(jìn)入檢漏儀的時(shí)間（如果檢漏設(shè)備沒(méi)有輔助抽空的系統(tǒng)，檢漏儀內(nèi)置的真空泵的大小會(huì)影響系統(tǒng)的響應(yīng)時(shí)間）。檢漏系統(tǒng)的響應(yīng)時(shí)間可根據(jù)下面的簡(jiǎn)單公式計(jì)算：
氦響應(yīng)時(shí)間
(達(dá)到實(shí)際漏率95%的時(shí)間)
其中 V = 試驗(yàn)對(duì)象容積
SHe = 檢漏系統(tǒng)對(duì)氦的有效抽速。
用標(biāo)準(zhǔn)漏孔校準(zhǔn)檢漏儀
檢漏工藝要求準(zhǔn)確地區(qū)分漏與不漏的試用對(duì)象，避免任何失誤。這就需要由標(biāo)準(zhǔn)漏孔（能產(chǎn)生已知氦漏率的人工漏孔）作為檢漏設(shè)備的基準(zhǔn)。為了獲得準(zhǔn)確的漏率數(shù)據(jù)，必須使用標(biāo)準(zhǔn)漏孔對(duì)校準(zhǔn)檢漏儀進(jìn)行校準(zhǔn)。
萊寶真空可以提供采用不同原理設(shè)計(jì)的漏率范圍10 - 9 ~ 10 - 4毫巴x升x秒 - 1的氦標(biāo)準(zhǔn)漏孔。所有標(biāo)準(zhǔn)漏孔的漏率都可以追溯到PTB（ 聯(lián)邦物理技術(shù)協(xié)會(huì)） 和
DAKKS認(rèn)證認(rèn)可的標(biāo)準(zhǔn)。根據(jù)客戶的要求， 每個(gè)氦標(biāo)準(zhǔn)漏孔都可以提供由DAkkS認(rèn)證認(rèn)可委員會(huì)頒發(fā)的校準(zhǔn)證書。校準(zhǔn)工作由萊寶真空在PTB的DAKKS校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室完成。
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PHOENIX L300i DRY是符合高清潔度要求的緊湊型、便攜式氦檢漏儀。以經(jīng)過(guò)充分驗(yàn)證的PHOENIX L300i 技術(shù)為基礎(chǔ)并配備了無(wú)油泵系統(tǒng)，PHOENIXL300i DRY達(dá)到高清潔度要求，同時(shí)還保持了小巧的外形。
客戶得益
- 干泵系統(tǒng)
- 占地面積小
- 啟動(dòng)速度快
- 響應(yīng)速度極快
- 模塊化設(shè)計(jì)使得維修便利
- 集成式氦污染保護(hù)
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典型應(yīng)用
對(duì)清潔度有著嚴(yán)苛要求的檢漏測(cè)試，例
如：
- 半導(dǎo)體工業(yè)
- 修理或維護(hù)的泄漏檢測(cè)
- 生產(chǎn)半導(dǎo)體元件
- 制藥/醫(yī)療
- 激光
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技術(shù)參數(shù) | PHOENIX L300i DRY | |||
小可檢氦漏率真空模式吸槍模式（實(shí)驗(yàn)室數(shù)據(jù)） | 毫巴x升x秒-1毫巴x升x秒-1 | ≤ 3 x 10-11 < 7 x 10-9 | ||
小可檢氫泄漏率真空模式吸槍模式 | 毫巴x升x秒-1毫巴x升x秒-1 | ≤ 1 x 10-8 < 1 x 10-7 | ||
測(cè)量單位（可選）壓強(qiáng)漏率吸槍模式 | mbar x l x s-1, | mbar, Pa, atm, Torr Pa x m3 x s-1, Torr x l x s-1, atm x cc x sec-1, sft3/yr ppm, g/a eq, oz/yr eq | ||
漏率測(cè)量范圍 | 毫巴x升x秒-1 | 1 x 10-11 to 1 x 10-1 | ||
測(cè)量范圍 | 11 decades | |||
入口高壓力 | 毫巴(托) | 15 (11 25) | ||
抽真空期間的抽速（氦） | ||||
50 Hz立方米x小時(shí) - 1（立方英尺/分鐘） 60 Hz立方米x小時(shí) - 1（立方英尺/分鐘） | 1 6 (0 94) 1 8 (1 06) | |||
入口抽速（氦） “粗檢”模式“精檢”模式“超精檢”模式 | 升/秒 升/秒 升/秒 | 0 02 0 4 > 3 1 | ||
漏率信號(hào)時(shí)間常數(shù)（達(dá)63%終值） | 秒 | < 1 | ||
檢漏儀啟動(dòng)時(shí)間 | 分鐘 | < 2 | ||
質(zhì)譜儀 | 180°扇形磁場(chǎng) | |||
離子源 | 2個(gè)燈絲：銥/氧化釔 | |||
可檢測(cè)的質(zhì)量數(shù) | 位 | 2, 3 和4 | ||
入口 | DN | 25 ISO-KF | ||
尺寸（寬x高x深） | 495 x 457 x 314 | |||
重量 | 千克(磅) | 35 5 (78 4) | ||
語(yǔ)言 | 英語(yǔ)、德語(yǔ)、中文、日語(yǔ)（片假名）、俄語(yǔ)、法語(yǔ)、 | |||
意大利語(yǔ)、西班牙語(yǔ)、波蘭語(yǔ)和朝鮮語(yǔ) | ||||
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訂貨信息 | PHOENIX L300i DRY | ||
產(chǎn)品號(hào) | |||
PHOENIX L300i DRY | |||
歐洲版 230V，50/60赫茲,帶集成標(biāo)準(zhǔn)漏孔TL | 250001V01 | ||
美國(guó)版 115 V，60赫茲,帶集成校準(zhǔn)漏孔TL7 | 251001V01 | ||
日本版 100 V，50/60赫茲,帶集成校準(zhǔn)漏孔TL7 | 251101V01 | ||
iPad 有線遙控單元（包括L300i App和連接線） | 252005V02 | ||
iPad 無(wú)線遙控單元（包括L300i App和無(wú)線模塊） | 252005V01 | ||
iPad固定器PHOENIX L300i | 252007V01 | ||
條形碼掃描儀iPad PHOENIX L300i | 252008V01 | ||
iPad臺(tái)架 | 252009V01 | ||
iPad鎖 | 252010V01 | ||
分流系統(tǒng)(115-230 V) | 140 20 | ||
PC軟件LeakWare | 140 90 | ||
其他附件參見“PHOENIX L300i、PHOENIX L300i | |||
DRY和PHOENIX L300i MODUL附件”部分。 | |||
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