由于復(fù)雜的供應(yīng)鏈,以及作為基礎(chǔ)材料使用的廢舊金屬數(shù)量的增加,鑄造廠和金屬制造商在控制熔體中的雜質(zhì)和痕量元素時(shí),面臨著更多的壓力。日立分析儀器新品OE750直讀光譜儀具有的性能水平。它涵蓋金屬中所有元素的光譜,并實(shí)現(xiàn)對(duì)某些元素的檢出限。因此,此款分析儀具備價(jià)格高昂的同類(lèi)儀器所能提供的功能水平,可為眾多鑄造廠和金屬制造商提供優(yōu)質(zhì)分析。
OE750實(shí)現(xiàn)高分辨率和寬動(dòng)態(tài)范圍要?dú)w功于采用了CMOS探測(cè)器技術(shù)的革命性新光學(xué)理念。其中有四項(xiàng)正處于申請(qǐng)狀態(tài)。因此,這種新型分析儀能覆蓋非常寬的波長(zhǎng)范圍;這意味著該分析儀能測(cè)量金屬中ppm級(jí)別的所有元素。這對(duì)于滿足當(dāng)今嚴(yán)格的金屬規(guī)格分析至關(guān)重要,該分析儀可以滿足新的ASTM E415標(biāo)準(zhǔn)中關(guān)于碳鋼和低合金鋼的試驗(yàn)方法的要求。
OE750是鋁鑄件的理想光譜儀,因?yàn)樗梢詼y(cè)定亞共晶和過(guò)共晶鋁硅合金中含量極低的磷。它可以分析銻、鉍、鍶和鈉,以及雜質(zhì)和痕量元素,從而確保這些元素能夠被控制在鋁熔體中,以?xún)?yōu)化結(jié)構(gòu)改造。創(chuàng)新性光學(xué)設(shè)計(jì)能實(shí)現(xiàn)更短的啟動(dòng)時(shí)間,因?yàn)楣鈱W(xué)系統(tǒng)的體積相對(duì)較小。這有助于那些需要在多點(diǎn)測(cè)量驗(yàn)證熔體質(zhì)量的工廠實(shí)現(xiàn)高批量生產(chǎn)。
除了新的光學(xué)設(shè)計(jì)之外,OE750還有其他支持大批量金屬分析的技術(shù)特性。它有一個(gè)新的密封火花臺(tái),具有優(yōu)化層流設(shè)計(jì),可降低氬氣消耗,降低污染的可能性,并大大降低維護(hù)要求。帶有低壓氬氣吹掃的中壓系統(tǒng)可減少泵的使用。這可將泵的功耗降低90%,并避免油氣污染,從而增加可靠性和儀器的正常運(yùn)行時(shí)間。這使得OE750具有高可靠性和低運(yùn)行成本。
除創(chuàng)新性硬件技術(shù)外,新型OE750還包括可提高性能的軟件。例如,它包括日立牌號(hào)數(shù)據(jù)庫(kù),該數(shù)據(jù)庫(kù)包含來(lái)自69個(gè)國(guó)家的339,000多種材料的1,200多萬(wàn)條記錄和標(biāo)準(zhǔn),減少了人工查閱牌號(hào)目錄的時(shí)間和潛在錯(cuò)誤??蛇x的爐料校正軟件會(huì)自動(dòng)計(jì)算添加至熔體中的正確材料量,使其符合規(guī)范。
日立分析儀器新品OE750直讀光譜儀能憑借一套可使用的解決方案提供全面的金屬分析。”(本文摘自日立分析儀器微信公眾號(hào),版權(quán)歸作者所有,如有疑問(wèn)請(qǐng)與我司聯(lián)系)
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