設(shè) 備 簡(jiǎn) 介
在高粘性乳化物,特別是膏霜,軟膏,乳劑類產(chǎn)品的制造工藝中,通常最成問題的是分散相的粒徑大和攪拌時(shí)把空氣混入制品中,粒徑過大導(dǎo)致乳狀物不穩(wěn)定,缺少光澤,制品中混入空氣則會(huì)使制品氣泡化,細(xì)菌污染,易氧化及外觀不光滑。
設(shè) 備 組 成 結(jié) 構(gòu)
ZKR系列乳化機(jī) 由乳化鍋(可升降式鍋蓋,翻轉(zhuǎn)式鍋體)、水相鍋、油相鍋、真空裝置、加熱及溫度控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、電器控制系統(tǒng)等組成。
本 機(jī) 特 征
1、 乳化鍋過為自動(dòng)升降式,水鍋、油鍋中的物料通過輸送管道可在真空狀態(tài)下直接吸入乳化鍋。
2、 出料的方式為乳化鍋內(nèi)的導(dǎo)熱介質(zhì)進(jìn)行加熱來實(shí)現(xiàn)對(duì)物料的加溫,加熱溫度任意設(shè)定,自動(dòng)控制。
3、 在夾層內(nèi)接入冷水即可對(duì)物料進(jìn)行冷卻,操作簡(jiǎn)單、方便,夾層外設(shè)有保溫層。
均質(zhì)攪拌與漿葉攪拌可分開使用,也可同時(shí)使用。
4、 物料微?;?、乳化、混合、調(diào)勻‘分散等可于短時(shí)間內(nèi)完成。
5、 與物料接觸部位采用不銹鋼(采用316L材料制造)內(nèi)表面鏡面拋光,真空攪拌裝置衛(wèi)生清潔,實(shí)驗(yàn)室乳化機(jī)采用符合GMP規(guī)范的衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)制造。是理想的膏、霜生產(chǎn)設(shè)備)。
應(yīng) 用 范 圍
【應(yīng)用領(lǐng)域】: 1、日用化學(xué)及化妝品工業(yè):護(hù)膚膏、剃須膏、洗發(fā)膏、牙膏、冷霜、防曬霜、洗面奶、營養(yǎng)蜜、洗滌劑、洗發(fā)香波等。
2、制藥工業(yè):乳膠、乳劑、藥膏(油膏)、口服糖漿等。
3、食品工業(yè):濃醬類、奶酪、口服液、嬰兒食品、巧克力、熬糖類等。
4、化學(xué)工業(yè):乳膠、醬、皂化產(chǎn)品、油漆、樹脂、膠粘劑、洗滌劑等。
工 作 原 理
物料在乳化機(jī)的均質(zhì)鍋內(nèi)通過鍋內(nèi)攪拌框上的聚四氟乙烯刮板(刮板始終迎合鍋體內(nèi)壁,掃凈掛壁粘料),不斷產(chǎn)生新界面,再經(jīng)過框式攪拌器及與其反向的攪拌葉,將物料剪斷、壓縮、折疊,使其攪拌、混合而向下流往鍋體下方的均質(zhì)器處,再通過高速旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子與定子之間所產(chǎn)生的剪斷、沖擊、亂流等過程使物料在剪切縫中被切割,迅速破碎成200nm~2μm的微粒。物料微粒化、乳化、混合、調(diào)勻、分散等可于短時(shí)間內(nèi)完成。由于均質(zhì)鍋內(nèi)處于真空狀態(tài),物料在攪拌過程中產(chǎn)生的氣泡被及時(shí)抽走,實(shí)驗(yàn)室乳化機(jī)均質(zhì)結(jié)束后升高鍋蓋,按下傾倒按鈕開關(guān)可使鍋內(nèi)物料排向鍋外容器內(nèi)(或者打開鍋底閥及加壓閥門直接排料)。
真空均質(zhì)乳化機(jī) 參數(shù)表
乳化鍋 | 型 號(hào) | ZKR -100 | ZKR -150 | ZKR -200 |
設(shè)計(jì)容積L | 100 | 150 | 200 | |
工作容積L | 80 | 120 | 160 | |
攪拌轉(zhuǎn)速Rpm | 0-86 | 0-86 | 0-65 | |
均質(zhì)器轉(zhuǎn)速Rpm | 0-2800 | 0-2800 | 0-2800 | |
升降方式 | 電動(dòng) | 液壓 | 液壓 | |
水相鍋 | 工作容積L | 45 | 80 | 95 |
攪拌轉(zhuǎn)速Rpm | 1400 | 1400 | 1400 | |
油相鍋 | 工作容積L | 35 | 60 | 80 |
攪拌轉(zhuǎn)速Rpm | 1400 | 1400 | 1400 | |
總功率 | 電加熱 | 24Kw | 27Kw | 39Kw |
蒸汽加熱 | 9Kw | 9Kw | 12Kw |
注:以上數(shù)據(jù)隨客戶的要求而發(fā)生變化,具體以實(shí)際數(shù)據(jù)為準(zhǔn)!