制藥網>產品庫>通用機械及設備>其它通用設備>傳感器>>超高速/高精度CMOS激光位移傳感器-LK-G5000 系列

超高速/高精度CMOS激光位移傳感器-LK-G5000 系列

參考價	面議

參考價

面議

具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱北京合創(chuàng)智達光電科技有限公司
品牌
型號
所在地北京市
廠商性質其他
更新時間2022/11/21 12:30:58
訪問次數(shù)366

產品標簽:

在線詢價收藏產品查看電話同類產品

聯(lián)系我們時請說明是制藥網上看到的信息，謝謝!

索取相關資料

公司介紹主營產品

　　北京合創(chuàng)智達光電科技有限公司是一家專業(yè)研發(fā)光學測量、視覺檢測和圖像處理系統(tǒng)軟件和設備的高科技企業(yè)。公司位于北京中關村區(qū)域，是依托國內大學科研成果，基于產學研相結合平臺成立的新型科技型企業(yè)。公司長期潛心于三維光學測量和數(shù)字圖像處理的基礎研究及應用開發(fā)，擁有獨立自主的知識產權，關鍵技術達到水平，在光學測量工程領域取得了一批高水平的研究成果，已推出包括ZD-ODMS三維應變測量分析系統(tǒng)、ZD-DA動態(tài)變形測量分析系統(tǒng)、ZD-OS三維光學面掃描系統(tǒng)、ZD-OM工件空間位置/姿態(tài)三維光學測量系統(tǒng)、ZD-DT動態(tài)靶標光學跟蹤系統(tǒng)、激光測振儀、可見光/紅外目標模擬器等在內十多項光學測量仿真產品系統(tǒng)。同時，我公司與多個國際大廠保持緊密合作關系，代理銷售的光源、鏡頭、CCD/CMOS相機/光學傳感器、數(shù)據(jù)采集器和光學仿真、分析軟件等光學領域多項產品，能為客戶提供的產品和技術服務。

展開顯示更多內容

ODMS三維應變測量分析系統(tǒng)、ZD-DA動態(tài)變形測量分析系統(tǒng)、ZD-OS三維光學面掃描系統(tǒng)、ZD-OM工件空間位置/姿態(tài)三維光學測量系統(tǒng)、ZD-DT動態(tài)靶標光學跟蹤系統(tǒng)、激光測振儀、可見光/紅外目標模擬器等在內十多項光學測量仿真產品系統(tǒng)

產品簡介在線詢價

LK-G5000 系列激光位移傳感器技術專為2D而優(yōu)化。這些的技術實現(xiàn)了高精度測量。

超高速/高精度CMOS激光位移傳感器-LK-G5000 系列產品信息

激光位移傳感器

感測頭漫反射

型號		LK-H025	LK-H027	LK-H055	LK-H057	LK-H020	LK-H022	LK-H050	LK-H052
安裝模式		漫反射型
參考距離		20mm		50 mm		20mm		50 mm
測量范圍		±3mm^*1	±3 mm^*1	±10 mm^*1		±3 mm^*1		±10 mm^*1
光源	類型	紅色半導體激光
	波長	655nm
	激光等級 (JIS C6802)	3A 類	2 類	3A 類	2 類	3A 類	2 類	3A 類	2 類
	輸出	4.8mW	0.95mW	4.8mW	0.95mW	4.8mW	0.95mW	4.8mW	0.95mW
光點直徑 (在參考距離時)		25μm×1400μm		50μm×2000μm		φ25 μm		φ50 μm
線性度		±0.02% F.S. (F.S.=6 mm)^*2		±0.02% F.S. (F.S.=20 mm)^*2		±0.02% F.S. (F.S.=6 mm)^*2		±0.02% F.S. (F.S.=20 mm)^*2
重復精度		0.02 μm (0.01 μm)^*3		0.025 μm^*3		0.02 μm (0.01 μm)^*3		0.025 μm^*3
采樣周期		2.55/5/10/20/50/100/200/500/1000 μs(可選擇 9 種級別)
溫度特征		0.01% F.S./°C (F.S.=6 mm)		0.01% F.S./°C (F.S.=20 mm)		0.01% F.S./°C (F.S.=6 mm)		0.01% F.S./°C (F.S.=20 mm)
環(huán)境耐性	防護等級	IP67
環(huán)境抗耐性	環(huán)境光照	白熾燈/熒光燈： 10,000 lux
	環(huán)境溫度	0 至 +50 °C				0 至 +50 °C^*4
	相對濕度	35 至 85 % RH (無凝結)
環(huán)境耐性	抗振性	10 至 55 Hz、雙振幅 1.5 mm、X,Y,Z 方向各 2 個小時
材料		鋁鑄外殼
重量		約 230 g		約 260 g		約 230 g		約 260 g
^1 取樣周期在 20 μs 以上時的測量范圍。 ^2 該值是指 KEYENCE 標準目標物 (僅用于 LK-H008/LK-H008W 的白色漫反射工件或帶有金屬鏡面的工件) 在正常測量模式下的測量值。 ^3 該值是指 KEYENCE 標準目標物 (僅用于 LK-H008/LK-H008W 的白色漫反射工件或帶有金屬鏡面的工件) 在測量平均值設為 16384 的參考距離下的測量值。括號內的值是在測量平均值設為 65536 且取樣周期為 200 μs 時的典型測量值。 ^4 當周圍溫度上升至 40 °C 以上時，必須安裝在金屬板上。

感測頭漫反射/鏡面反射

型號		LK-H080	LK-H150	LK-H085	LK-H155	LK-H082	LK-H087	LK-H152	LK-H157
安裝模式		漫反射型				漫反射型/鏡面反射型^*5
參考距離		80 mm	150 mm	80 mm	150 mm	漫反射型：80 mm 鏡面反射型：76.7 mm		漫反射型：150 mm 鏡面反射型：147.5 mm
測量范圍		±18 mm^*1	±40 mm^*1	±18 mm^*1	±40 mm^*1	漫反射型：±18 mm 鏡面反射型：-17.6 mm 至 +14.5 mm^*6		漫反射型：±40 mm 鏡面反射型：-39.5 mm 至 +24.4 mm^*6
光源	類型	紅色半導體激光
	波長	655nm
	激光等級 (JIS C6802)	3A 類				2 類
	輸出	4.8mW				0.95mW
光點直徑 (在參考距離時)		φ70 μm	φ120 μm	70 μm × 2500 μm	120μm×4200μm	φ70 μm	70 μm × 2500 μm	φ120 μm	120μm×4200μm
線性度		±0.02% F.S. (F.S.=36 mm)^*2	±0.02% F.S. (F.S.=80 mm)^*2	±0.02% F.S. (F.S.=36 mm)^*2	±0.02% F.S. (F.S.=80 mm)^*2	±0.02% F.S.(F.S.=36 mm)^*2		±0.02% F.S.(F.S.=80 mm)^*2
重復精度		0.1 μm^*3	0.25 μm^*3	0.1 μm^*3	0.25 μm^*3	0.1 μm^*3		0.25 μm^*3
采樣周期		2.55/5/10/20/50/100/200/500/1000 μs(可選擇 9 種級別)
溫度特征		0.01% F.S./°C (F.S.=36 mm)	0.01% F.S./°C (F.S.=80 mm)	0.01% F.S./°C (F.S.=36 mm)	0.01% F.S./°C (F.S.=80 mm)	0.01% F.S./°C(F.S.=36 mm)		0.01% F.S./°C(F.S.=80 mm)
環(huán)境耐性	防護等級	IP67
環(huán)境抗耐性	環(huán)境光照	白熾燈/熒光燈： 10,000 lux						白熾燈/熒光燈： 5,000 lux
	環(huán)境溫度	0 至 +50 °C^*4
	相對濕度	35 至 85 % RH (無凝結)
環(huán)境耐性	抗振性	10 至 55 Hz、雙振幅 1.5 mm、X,Y,Z 方向各 2 個小時
材料		鋁鑄外殼
重量		約 280 g	約 300 g	約 280 g	約 300 g	約 280 g		約 300 g
^1 取樣周期在 20 μs 以上時的測量范圍。 ^2 該值是指 KEYENCE 標準目標物 (僅用于 LK-H008/LK-H008W 的白色漫反射工件或帶有金屬鏡面的工件) 在正常測量模式下的測量值。 ^3 該值是指 KEYENCE 標準目標物 (僅用于 LK-H008/LK-H008W 的白色漫反射工件或帶有金屬鏡面的工件) 在測量平均值設為 16384 的參考距離下的測量值。括號內的值是在測量平均值設為 65536 且取樣周期為 200 μs 時的典型測量值。 ^4 當周圍溫度上升至 40 °C 以上時，必須安裝在金屬板上。 ^5 在測量透明或鏡面物體時使用以下深色濾光片：LK-H082/LK-H087：LK-F3，LK-H152/LK-H157：LK-F2 ^6 取樣周期在 20 µs 以上時的測量范圍。