技術(shù)參數(shù):
型號(hào)/model | MFCVD-Ⅰ/ MFCVD-Ⅱ |
微波特性 | 2450MHz(220V);功率:4KW,分檔和/或無(wú)極連續(xù)可調(diào) |
諧振腔 | 304不銹鋼諧振腔&專用波導(dǎo)設(shè)計(jì)避免電子回轟 |
加熱方式 | 4種:微波等離子、純微波、~傳統(tǒng)電加熱、混合加熱 |
雙溫區(qū)結(jié)構(gòu) | 上部等離子區(qū)或加熱區(qū)、下部樣品臺(tái)加熱區(qū) |
樣品腔材質(zhì) | 石英管:微波等離子工作模式;石英管&剛玉管:純微波、傳統(tǒng)電加熱、混合加熱模式 |
樣品腔直徑/mm | Φ45、Φ60、Φ100石英樣品腔(1100℃)可選;Φ45、Φ60剛玉樣品腔(1500℃)可選 |
樣品腔/加熱區(qū)長(zhǎng)度 | 樣品腔:100~300mm可選;加熱區(qū):100mm或以上可選 |
樣品臺(tái)溫度 | 室溫-1200℃,更高溫度可選;控溫精度:±1℃/±2℃;觸摸屏智能控制 |
升溫速度 | >200℃/min(微波等離子工作模式除外),可在0~升溫速度之間編程設(shè)定自動(dòng)控制 |
質(zhì)量流量控制系統(tǒng) | 2套,七星華創(chuàng)(真空保護(hù)閥門后置,匹配真空模式);精度:0.8%;耐壓:1MPa;控制響應(yīng)時(shí)間:10ms;氣體類型可選;計(jì)算機(jī)及控制軟件,內(nèi)置&實(shí)時(shí)顯示&保存生長(zhǎng)參數(shù) |
超潔凈真空系統(tǒng) | 3Pa量級(jí),渦旋泵+數(shù)字真空計(jì); 10-3Pa量級(jí),渦旋泵+分子泵+復(fù)合真空計(jì) |
端口&氣路 | 不銹鋼KF50法蘭接口,氣柜、氣路及閥門等 |
Ⅰ型結(jié)構(gòu) | 臥式:氣流方向與樣品臺(tái)樣品表面平行 |
Ⅱ型結(jié)構(gòu) | 立式:氣流方向與樣品臺(tái)樣品表面垂直 |
用途 | 該系統(tǒng)既可用作傳統(tǒng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備,又可用作微波能化學(xué)氣相沉積設(shè)備,同時(shí)又是微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)??捎糜诟鞣N功能薄膜的生長(zhǎng),例如:石墨烯、金剛石、各種半導(dǎo)體材料薄膜、磁性薄膜,等等。 |
Ⅰ型結(jié)構(gòu)CVD系統(tǒng)
分子泵機(jī)組
Ⅱ型結(jié)構(gòu)CVD系統(tǒng)