設(shè)備名稱
超高速剪切納米氧化鋅研磨分散機,高剪切研磨分散機,超高速研磨分散機,高剪切研磨機,高剪切分散機
納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間,是一種面向21世紀(jì)的新型高功能精細無機產(chǎn)品,表現(xiàn)出許多特殊的性質(zhì),如非遷移性、熒光性、壓電性、吸收和散射紫外線能力等,利用其在光、電、磁、敏感等方面的奇妙性能,可制造氣體傳感器、熒光體、變阻器、圖像記錄材料、壓電材料、壓敏電阻、高效催化劑、磁性材料和塑料薄膜等。
納米氧化鋅的分散難點:納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當(dāng)中,容易出現(xiàn)抱團的現(xiàn)象,導(dǎo)致物料粒徑變大,分散效果不佳,產(chǎn)品改性不充分。
如果使用普通的分散設(shè)備,很難將納米氧化鋅分散均勻,會出現(xiàn)團聚的現(xiàn)象,團聚體難以打開,而如果采用SGN研發(fā)的分散設(shè)備,研磨分散機的話,先研磨后分散機,解決團聚問題,可達納米氧化鋅還原至納米級。
SGN研磨式分散機,是由膠體磨+分散機結(jié)合而成的設(shè)備,主要是為了解決納米級物料的分散,如:納米碳酸鈣、納米*、納米氧化鋁、石墨烯、碳納米管等納米級物料的分散。
GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN(江蘇)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
GMD2000系列超高速剪切納米氧化鋅研磨分散機的特點:
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
超高速剪切納米氧化鋅研磨分散機設(shè)備參數(shù)表:
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD 2000/5 | 1000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD 2000/10 | 3000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD 2000/20 | 8000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD 2000/30 | 20000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 60000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到蕞大允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和最終產(chǎn)品的要求。
3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。
4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動,定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實物為準(zhǔn)。