TargetSystem
用于可見目標(biāo)和隱藏目標(biāo)的自動(dòng)目標(biāo)制備
TargetSystem 特性
- 顯著縮減制備時(shí)間
- 不受操作人員技能影響
- 的再現(xiàn)性
- 無需成本昂貴的磨料薄膜
TargetSystem 設(shè)計(jì)用于微電子組件和扁平化目標(biāo)制備。這是款失效分析工具,可對(duì)可見目標(biāo)和隱藏目標(biāo)進(jìn)行實(shí)時(shí)對(duì)齊和測(cè)量,例如微型穿孔和 BGA。系統(tǒng)精度高達(dá) +/- 5 µm。