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電子束光刻膠

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公司名稱深圳市藍星宇電子科技有限公司
品牌
型號
所在地
廠商性質(zhì)其他
更新時間2021/7/22 21:03:52
訪問次數(shù)592

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深圳市藍星宇電子科技有限公司，經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀，可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務，研發(fā)設(shè)計組裝：紫外臭氧清洗機（UV清洗機），準分子清洗機，等離子清洗機/去膠機等科研以及生產(chǎn)設(shè)備，擁有自主品牌及注冊商標。同時我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價比產(chǎn)品, 始終堅持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務, 誠信的企業(yè)文化，為廣大中國及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。應用領(lǐng)域: 半導體/微納，光電/光學, 生命科學/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機構(gòu)等。半導體/微納，光電/光學產(chǎn)品主要有：德國ParcanNano（Nano analytik）針尖光刻機，電子束光刻機, 激光直寫光刻機，紫外光刻機，微納3D打印機，德國Sentech刻蝕機/鍍膜機及原子沉積，英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機，微波離子沉積機MPCVD，芬蘭Picosun原子層沉積機，電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機/UV清洗燈，美國Jelight紫外清洗機/紫外燈管，德國Diener等離子清洗機等*技術(shù)產(chǎn)品。生命科學/生物醫(yī)療產(chǎn)品主要有：PCR儀，核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測儀，電子顯微鏡，紫外設(shè)備，光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，生物芯片，試劑，實驗耗材等。并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價比的優(yōu)勢為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務，為高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。

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電子顯微鏡

產(chǎn)品簡介在線詢價

E-Beam 電子束光刻膠：HSQXR-1541-006, Z520, PMMA, EBL6000系列，Ma-N2400系列。納米壓印膠：mr-NIL 6000E, mr-L 900M, mr-UVCur21.光固化膠：Ormo 系列

電子束光刻膠產(chǎn)品信息

電子束光刻膠

詳細介紹：

類型	光刻膠型號	適用光譜	厚度范圍/um	分辨率	適用工藝
電子束光刻膠	HSQXR-1541-006	EB	85nm~180nm	6nm	分辨率負膠，抗刻蝕
	Z520		0.05-1	10-50nm	高分辨率電子束正膠,抗刻蝕
	PMMA		電子束正膠
	EBL 6000系列		0.1-0.5	50nm	負性電子束光刻膠
	ma-N2400系列		0.1-1.5	30nm	負性電子束光刻膠
納米壓印膠	mr-NIL 6000E	熱固化和UV固化	0.1-1	50nm	可用于納米圖形的制造、刻蝕、多層系統(tǒng)等
	mr-I 9000M	熱固化	0.1-1	50nm
	mr-UVCur21	UV固化	0.1-5	50nm
光固化膠	Ormo系列	g/h/i-Line	0.1-300	50nm	適用于制造光柵、微型鏡片、光耦合器和連接器等

電子束光刻膠（e-beam resist）

類型	型號	特性
正膠	SX AR-P 6200 NEW!	超高分辨率電子束正膠，通過簡單的工藝即可得到10nm甚至更小的結(jié)構(gòu)。超高深寬比（20:1）、超高對比度（>15）。良好的耐干法刻蝕性能，是傳統(tǒng)PMMA膠的2倍。 *可以取代ZEP膠，經(jīng)濟實惠，并且采購簡單，包裝規(guī)格多樣化。
	AR-P617 PMMA/MA共聚物	適合目前各種應用需要的電子束光刻膠。靈敏度高，是普通PMMA膠的3~ 4倍，對比度亦高于PMMA。 PMMA/MA共聚物也可以和PMMA通過雙層工藝實現(xiàn)lift-off工藝。
	PMMA	PMMA（polymethyl methacrylate）是電子束曝光工藝中的正性光刻膠，是由單體甲基丙烯酸甲酯（methyl methacrylate, MMA）經(jīng)聚合反應而成。 PMMA膠最主要的特點是高分辨率、高對比度、低靈敏度。 PMMA膠種類齊全，不同的系列中包含了各種分子量（50K, 200K, 600K, 950K），各種溶劑（氯苯，乳酸乙酯，苯甲醚）以及各種固含量的PMMA膠，以滿足各類電子束光刻的工藝要求。 PMMA膠可用于單層或雙層電子束曝光、轉(zhuǎn)移碳納米管或石墨烯、絕緣層等多種工藝。（注：工廠可根據(jù)用戶的需求，定制所需分子量、固含量的PMMA膠。）
	AR-P 6510	AR-P 6510是在PMMA的基礎(chǔ)上開發(fā)的厚膠。另外，廠商可以根據(jù)客戶的具體需求來生產(chǎn)其他分子量的LIGA工藝用膠。主要用于LIGA工藝和X-Ray 曝光工藝。此類光刻膠型號齊全，厚度從10~250μm不等，圖形剖面陡直。
負膠	AR-N 7520 AR-N 7500	電子束負膠，高分辨率（30nm），對比度高（> 5），良好的耐等離子刻蝕性能，可以用于混合曝光。靈敏度中等，介于AR-N 7700和PMMA之間。
	AR-N 7700	電子束負膠，化學放大膠，高靈敏度，高對比度，良好的耐等離子刻蝕刻蝕性能，可以用于混合曝光。
	AR-N 7720	電子束負膠，用于三維曝光工藝。化學放大膠，高靈敏度，對比度非常?。?1），非常適合制作三維結(jié)構(gòu)；也可以用于衍射光學及全息器件的加工。
	X AR-N 7700/30 SX AR-N 7700/37	化學放大負膠，高分辨率，良好的耐等離子刻蝕能力，適合混合曝光。高靈敏度，靈敏度比AR-N 7700更高。

配套試劑
（Process chemicals）

類型	型號	特性
顯影液	AR 300-26, -35	紫外光刻膠用顯影液
	AR 300-44,-46,-47, -475	紫外/電子束光刻膠用顯影液
	AR 600-50,-51,-55,-56	PMMA膠用顯影液
定影液	AR 600-60,-61	電子束光刻膠用定影液
除膠劑	AR 300-70, -72, -73,600-70	紫外/電子束光刻膠用除膠劑
稀釋劑	AR 600-01…09	PMMA膠稀釋劑
稀釋劑	AR 300-12	紫外/電子束光刻膠用稀釋劑
增附劑	AR 300-80, HMDS	紫外/電子束光刻膠用增附劑