· 硬度標尺 :4Be~92U
· 發(fā)射源:搭載高亮度肖特基發(fā)射體
· 二次電子圖像分辨率:3nm(加速電壓30kV)
· X射線取出角角度:52.5°,限度減少X射線被吸收
· 分光晶體:全聚焦型
· X射線譜儀:高靈敏度、高分辨率型
1 高亮度肖特基發(fā)射體
場發(fā)射電子槍采用的肖特基發(fā)射體比一般傳統(tǒng)SEM使用的發(fā)射體針尖直徑更大,輸出更高。即可以保持其高亮度,還可提供高靈敏度分析*的穩(wěn)定大電流。
2 EPMA專用電子光學(xué)系統(tǒng)
電子光學(xué)系統(tǒng),聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側(cè),交叉點不是靠聚光透鏡形成,而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上,具有獨立構(gòu)成與控制方式的可變光闌透鏡來形成交叉點的(日本:第4595778號)。簡單的透鏡結(jié)構(gòu),既能獲得大束流,同時全部電流條件下設(shè)定最合適的打開角度,將電子束壓縮到最細。當(dāng)然是不需要更換物鏡光闌的。
3 超高真空排氣系統(tǒng)
電子槍室、中間室、分析腔體之間分別安裝有篩孔(orifice)間隔方式的2級差動排氣系統(tǒng)。中間室與分析腔體間的氣流孔做到最小,以控制流入中間室的氣體,使電子槍室始終保持著超高真空,確保發(fā)射體穩(wěn)定工作。
4 高靈敏度X射線譜儀
最多可同時搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀。52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號的空間分辨率的同時,又可減小樣品對X射線的吸收,實現(xiàn)高靈敏度的分析。