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OTF-1200X-4-C4LVS 雙管滑動快速加熱冷卻爐

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更新時間:2023-02-02 08:45:04瀏覽次數(shù):372

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產品簡介

OTF-1200X-4-C4LVS雙管爐是一個特殊的雙管CVD系統(tǒng),是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計,特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究,通過滑動爐子實現(xiàn)快速加熱和冷卻

詳細介紹

OTF-1200X-4-C4LVS 雙管爐是 一個特殊的雙管CVD系統(tǒng),是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計,特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究,通過滑動爐子實現(xiàn)快速加熱和冷卻。

特點:


1.雙石英管:外管直徑100mm ,懸掛的內管直徑 80. 金屬箔纏繞在內管的外表面上發(fā)生CVD反應。
2.雙管的真空密封法蘭:允許反應氣體通過兩管之間(10mm間隙)發(fā)生反應,冷卻氣體直接通入內管.
3.四通道質量流量計控制4路氣體。
4.配有KF25快接和波紋管的高速機械泵。

5.爐子底部裝有滑軌:爐子可以從一端滑向另一端,從而實現(xiàn)快速升溫和降溫.

技術參數(shù)

爐體結構
  • 高純 Al2O3保溫材料,保證了爐膛有的溫度均勻性.
  • 內爐膛表面涂有美國進口的1750度高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率,同時也可以延長儀器的使用壽命
  • 爐子底部的冷卻風扇保證了熱量正常對外釋放.
  • 密封法蘭系統(tǒng)全不銹鋼制作。
電源 電源:208-240VAC, 50/60Hz, 單相, 2.5KW ( 20A 保險絲)
加熱溫度 溫度: 1100°C
連續(xù)溫度: 1000°C
加熱區(qū)
加熱區(qū)長度: 440mm
恒溫區(qū)長度: 120mm (±1°C) @400~1100°C
雙溫區(qū)爐可獲得t 240mm 的恒溫區(qū)
加熱和冷卻速度

的加熱和冷卻速度跟工作溫度有關, 看出的加熱和冷卻速度隨溫度的變化而變化。
( 在使用爐子之前,要校準工作溫度和加熱、冷卻速度 )


加熱 冷卻
石英管 外管: OD: 4"x ID: 3.8"X55" Length (OD100 x ID 96 x 1400, mm )
內管: OD:3.15: x ID x 2.95" x 55" Length (OD80 x ID 75 x 1800 mm )
真空法蘭
  • 一對 SS304不銹鋼法蘭,通過用兩個高溫“O”型圈緊密密封可獲得高真空。
  • 爐子底部裝有一對滑軌
  • 爐子可以手動從一端滑向另一端,實現(xiàn)快速的加熱和冷卻。
  • 為了得到較快的加熱速度,可以先將爐子預熱,然后滑到放置樣品的位置。
  • 為了獲得較快的冷卻的速度,把爐子滑向另一端,同時將冷卻氣體通入 樣品所在的位置

  • 極限真空度: 10^-2 torr (機械泵)
    10^-5 torr (分子泵)
可選 本公司進口的防腐型數(shù)字式真空顯示計,其測量范圍為3.8x10-5 1125 Torr. 不需因測量氣體種類不同而需要系數(shù)轉換.

溫控儀 溫控儀:帶超溫保護和PID調節(jié)的 30 段程序控制。
控溫精度: +/-1°C
混氣系統(tǒng) 4路精密質子流量計:數(shù)字顯示、氣體流量自動控制.
  • MFC 1范圍: 0~100 sccm
  • MFC 2范圍: 0~200 sccm
  • MFC 3范圍: 0~200 sccm
  • MFC 4范圍: 0~500 sccm

氣路: 4 路
流量精度: 0.2%
進氣和出氣接口: 1/4" 卡套
一個混氣罐.
每路氣路都有一個獨立的不銹鋼針閥控制。

通過控制面板上的旋鈕來調節(jié)氣體流量.

真空泵
  • 安裝在移動架底部的機械泵,真空度達 10-3 Torr.
  • 真空泵與手動擋板閥之間用KF25 快接與不銹鋼波紋管連接 .
  • 數(shù)字真空表安裝在一端的法蘭上.

    選擇: 可以配分子泵,真空度達 10-5 Torr
作為基片用的25um厚的銅箔
(選配)
生長石墨烯的銅箔 (150m length x 150mm width x 25um thickness)
尺寸(mm) 爐體: 550 x 380 x 520
移動架: 600x600x597
凈重 300 lb
保修期 一年質保期 (耗材:如爐管,“O”型圈,和加熱元件等不在保修范圍內)
認證 CE 認證

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