詳細(xì)介紹
OTF-1200X-50-PE-S是一款小型的PE-CVD(等離子體氣相沉積)管式爐系統(tǒng)。此套設(shè)備帶有500W的等離子射頻電源,一個(gè)爐管直徑為50mm的開(kāi)啟式管式爐(帶有真空法蘭和連接管道)和一個(gè)直聯(lián)式雙旋機(jī)械泵。因此這套設(shè)備模型可以更新為不同的PECVD
特征 系統(tǒng)。對(duì)于有限的經(jīng)費(fèi)的情況下來(lái)進(jìn)行材料探索,此套系統(tǒng)極為理想。
- 與普通CVD相比可以在低溫環(huán)境下進(jìn)行氣相沉積實(shí)驗(yàn)
- 對(duì)于薄膜的應(yīng)力可以通過(guò)射頻電源的頻率來(lái)進(jìn)行控制
- 通過(guò)工藝調(diào)節(jié)來(lái)控制化學(xué)計(jì)量
- 能夠廣泛地用于各種材料沉積,如SiOx, SiNx, SiOxNy 和無(wú)定型硅(a-Si:H) 等.
技術(shù)參數(shù)
開(kāi)啟式管式爐 |
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等離子體射頻電源 |
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真空法蘭和接頭 |
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真空泵 |
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產(chǎn)品尺寸和重量 | 外形尺寸:1500mm x 600mm x 1200mm( L x W x H) 凈重: 160 lbs |
可選配置 |
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質(zhì)保期 | 一年質(zhì)保期,終生維護(hù)(不包括爐管、硅膠密封圈和加熱元件) |
質(zhì)量認(rèn)證 | CE Certified |