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QRM-Beamstop散射校正板,

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QRM-Beamstop散射校正板,BeamStopPhantom由嵌入PMMA板的鉛圓柱的規(guī)則陣列組成。鉛阻滯劑提供足以防止初級(jí)輻射到達(dá)檢測(cè)器的衰減。Beam Stop Phantom 是一種方便的工具,可用于通過(guò)實(shí)驗(yàn)確定模擬和數(shù)字射線(xiàn)照相的給定測(cè)量設(shè)置的 X 射線(xiàn)散射與主要比率。

詳細(xì)介紹


Beam Stop Phantom 由嵌入 PMMA 板的鉛圓柱的規(guī)則陣列組成。鉛阻滯劑提供足以防止初級(jí)輻射到達(dá)檢測(cè)器的衰減。Beam Stop Phantom 是一種方便的工具,可用于通過(guò)實(shí)驗(yàn)確定模擬和數(shù)字射線(xiàn)照相的給定測(cè)量設(shè)置的 X 射線(xiàn)散射與主要比率。
光束停止陣列放置在物體和 X 射線(xiàn)源之間或物體和探測(cè)器之間。
每個(gè)阻滯劑后面的信號(hào)水平的測(cè)量給出了散射強(qiáng)度,而沒(méi)有體模的測(cè)量表示總強(qiáng)度(散射和主要信號(hào))。將兩個(gè)值相除會(huì)得到散射分?jǐn)?shù)。

Beam Stop Phantom,QRM-Beamstop光束停止陣列模體

QRM-Beamstop散射校正板,

Beam Stop Phantom,QRM-Beamstop散射校正板,原理

散射校正板(Beam Stop Array, BSA)方法是最近幾年提出的一種軟硬件結(jié)合的散射校正方法,以錐束ct的實(shí)際應(yīng)用中取得了良好的效果,受到研究人員的廣泛重視。
為了檢測(cè)到散射射線(xiàn)的強(qiáng)度分布,需要定制一塊散射校正板,校正板是由一個(gè)有機(jī)玻璃板構(gòu)成,有機(jī)玻璃板上均勻分布著同等間隔同等尺寸的氣孔,氣孔由鉛滴填充。將散射校正板平行放置于探測(cè)器前,探測(cè)器上的鉛塊對(duì)應(yīng)的位置上探測(cè)到的光強(qiáng)都是由散射射線(xiàn)產(chǎn)生的,由于散射射線(xiàn)強(qiáng)度空間頻率較低,可以通過(guò)對(duì)相應(yīng)的鉛塊點(diǎn)的像素值 進(jìn)行二維插值,擴(kuò)展到整個(gè)平面,得到散射強(qiáng)度分布圖,從而是應(yīng)用于進(jìn)一步的散射校正。

Beam Stop Phantom,QRM-Beamstop散射校正板用來(lái)估計(jì)X射線(xiàn)的散射分布
錐形束計(jì)算機(jī)斷層掃描
并開(kāi)發(fā)散射校正技術(shù)
Beam Stop Phantom,QRM-Beamstop散射校正板由嵌入聚甲基丙烯酸甲酯中的規(guī)則圓柱體陣列組成
(PMMA) 板。在假設(shè)鉛由于阻滯劑提供的衰減長(zhǎng)度足以防止初級(jí)輻射到達(dá)探測(cè)器,因此 QRM-Beamstop 是一種方便的方法,可以通過(guò)實(shí)驗(yàn)確定模擬和數(shù)字射線(xiàn)照相的給定測(cè)量設(shè)置的 X 射線(xiàn)散射與初級(jí)比。
Beam Stop Phantom,QRM-Beamstop散射校正板列放置在物體和 X 射線(xiàn)源之間或物體和探測(cè)器之間。
每個(gè)阻滯劑后面的信號(hào)電平的測(cè)量給出了散射強(qiáng)度,而沒(méi)有光束停止陣列的測(cè)量表示總強(qiáng)度(散射和主要信號(hào))。將兩個(gè)值相除會(huì)得到散射分?jǐn)?shù)。

Beam Stop Phantom,QRM-Beamstop散射校正板尺寸:240mm X 240mm X 6mm
材料:PMMA
鉛圓柱:高度6 mm,直徑3mm,間距20mm;

Beam Stop Phantom,QRM-Beamstop散射校正板尺寸圖:

QRM-Beamstop散射校正板,


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