詳細(xì)介紹
廣州譽(yù)立電子科技代理的科研型電流體噴印設(shè)備,是源自華中科技大學(xué)數(shù)字制造裝備與技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室的高分辨率電流體噴印原創(chuàng)技術(shù),獲2017年湖北省自然科學(xué)一等獎(jiǎng)和2014年日內(nèi)瓦發(fā)明展金獎(jiǎng);配置高速視覺系統(tǒng)、高精度多自由度運(yùn)動(dòng)平臺(tái)、精密供墨系統(tǒng)等功能模塊,適用1-10000cPs粘度的有機(jī)/無機(jī)墨水,集成按需點(diǎn)噴、紡絲直寫、霧化制膜三種打印模式,支持矢量圖、位圖等圖形輸入,高精度制備微納級點(diǎn)/點(diǎn)陣、線/曲線、薄膜結(jié)構(gòu)等復(fù)雜微納圖案。
產(chǎn)品介紹:
HEIJ系列科研型電流體噴印設(shè)備,源自華中科技大學(xué)數(shù)字制造裝備與技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室的高分辨率電流體噴印原創(chuàng)技術(shù),獲2017年湖北省自然科學(xué)一等獎(jiǎng)和2014年日內(nèi)瓦發(fā)明展金獎(jiǎng);配置高速視覺系統(tǒng)、高精度多自由度運(yùn)動(dòng)平臺(tái)、精密供墨系統(tǒng)等功能模塊,適用1-10000cPs粘度的有機(jī)/無機(jī)墨水,集成按需點(diǎn)噴、紡絲直寫、霧化制膜三種打印模式,支持矢量圖、位圖等圖形輸入,高精度制備微納級點(diǎn)/點(diǎn)陣、線/曲線、薄膜結(jié)構(gòu)等復(fù)雜微納圖案。
規(guī)格指標(biāo):
型號(hào)說明 | P型:專業(yè)級微納圖案化平臺(tái) |
設(shè)備特點(diǎn) | 一體機(jī)、專業(yè)級平臺(tái)、可定制化 |
供墨系統(tǒng) | 精密氣壓+流量泵 雙供墨 |
高壓電源 | ±5000V@多種波形 |
打印頻率 | ~10000Hz |
打印基臺(tái) | 210×210mm2,真空吸附、加熱~100℃ |
打印速度 | 3DOF@500mm/s |
定位/重復(fù)精度 | ±3μm / ±1μm |
視覺系統(tǒng) | 高倍觀測相機(jī)+精密定位相機(jī) |
圖形格式 | 支持矢量圖、位圖,內(nèi)置基本圖元(HEIJ-P支持曲面打?。?/span> |
工藝指標(biāo) | 點(diǎn)噴最小直徑 <1μm、打線最小線寬 <1μm、制膜最小厚度 ~50nm |