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電流體噴印設(shè)備-HEIJ-P型

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更新時(shí)間:2021-07-18 20:10:46瀏覽次數(shù):283

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產(chǎn)品簡介

電流體噴印設(shè)備-HEIJ-P型

詳細(xì)介紹

廣州譽(yù)立電子科技代理的科研型電流體噴印設(shè)備,源自華中科技大學(xué)數(shù)字制造裝備與技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室的高分辨率電流體噴印原創(chuàng)技術(shù),獲2017年湖北省自然科學(xué)一等獎(jiǎng)和2014年日內(nèi)瓦發(fā)明展金獎(jiǎng);配置高速視覺系統(tǒng)、高精度多自由度運(yùn)動(dòng)平臺(tái)、精密供墨系統(tǒng)等功能模塊,適用1-10000cPs粘度的有機(jī)/無機(jī)墨水,集成按需點(diǎn)噴、紡絲直寫、霧化制膜三種打印模式,支持矢量圖、位圖等圖形輸入,高精度制備微納級點(diǎn)/點(diǎn)陣、線/曲線、薄膜結(jié)構(gòu)等復(fù)雜微納圖案。

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產(chǎn)品介紹

 HEIJ系列科研型電流體噴印設(shè)備,源自華中科技大學(xué)數(shù)字制造裝備與技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室的高分辨率電流體噴印原創(chuàng)技術(shù),獲2017年湖北省自然科學(xué)一等獎(jiǎng)和2014年日內(nèi)瓦發(fā)明展金獎(jiǎng);配置高速視覺系統(tǒng)、高精度多自由度運(yùn)動(dòng)平臺(tái)、精密供墨系統(tǒng)等功能模塊,適用1-10000cPs粘度的有機(jī)/無機(jī)墨水,集成按需點(diǎn)噴、紡絲直寫、霧化制膜三種打印模式,支持矢量圖、位圖等圖形輸入,高精度制備微納級點(diǎn)/點(diǎn)陣、線/曲線、薄膜結(jié)構(gòu)等復(fù)雜微納圖案。


規(guī)格指標(biāo):

型號(hào)說明

P:專業(yè)級微納圖案化平臺(tái)

設(shè)備特點(diǎn)

一體機(jī)、專業(yè)級平臺(tái)、可定制化

供墨系統(tǒng)

精密氣壓+流量泵 雙供墨

高壓電源

±5000V@多種波形

打印頻率

~10000Hz

打印基臺(tái)

210×210mm2,真空吸附、加熱~100℃

打印速度

3DOF@500mm/s

定位/重復(fù)精度

±3μm / ±1μm

視覺系統(tǒng)

高倍觀測相機(jī)+精密定位相機(jī)

圖形格式

支持矢量圖、位圖,內(nèi)置基本圖元(HEIJ-P支持曲面打?。?/span>

工藝指標(biāo)

點(diǎn)噴最小直徑 <1μm、打線最小線寬  <1μm、制膜最小厚度 ~50nm



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