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詳細(xì)介紹
PIPS II 精密離子減薄儀
設(shè)備簡(jiǎn)介：
一代PIPS™離子減薄系統(tǒng)樹(shù)立了透射電鏡（TEM）制樣的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)已超20年，而全新一代PIPS II 精密離子減薄儀基于一代PIPS 有了根本性的升級(jí)。
PIPS II 包含了 WhisperLok®，能對(duì)減薄樣品進(jìn)行準(zhǔn)確定位。10英寸觸摸屏簡(jiǎn)單易用，提高對(duì)減薄區(qū)域的精度控制和減薄過(guò)程的可重復(fù)性。
配備的數(shù)碼變焦顯微鏡系統(tǒng)可以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)減薄過(guò)程，同時(shí)可將獲取的彩圖存儲(chǔ)于DM軟件中，用于與樣品在TEM中成像對(duì)比。
性能優(yōu)點(diǎn)：
WhisperLok系統(tǒng)及X-Y可調(diào)樣品臺(tái)：可對(duì)樣品感興趣區(qū)域進(jìn)行對(duì)中重復(fù)減薄
低能量聚焦離子槍?zhuān)鹤兓牡湍芰糠秶男阅芸捎糜贔IB樣品的表面清掃
能量從 0.1 keV到 8 keV可調(diào) : 低能范圍的性能提升可以減少非晶層
液氮冷臺(tái)：去除熱效應(yīng)產(chǎn)生的樣品損傷
10英寸彩色觸摸屏控制：簡(jiǎn)單易用的控制圖形用戶(hù)界面
數(shù)碼變焦顯微鏡系統(tǒng)：實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)減薄過(guò)程
DM軟件存儲(chǔ)彩圖：可以使用同TEM和EELS數(shù)據(jù)相同的格式儲(chǔ)存光學(xué)顯微圖像
應(yīng)用：
半導(dǎo)體
金屬（氧化物，合金）
陶瓷
技術(shù)規(guī)格：
| 離子源 | |
| 離子槍 | 兩個(gè)配有低能聚焦能力電極的潘寧離子槍 |
| 拋光角度（°） | +10 到-10,每支離子槍可獨(dú)立調(diào)節(jié) |
| 離子束能量 (keV) | 0.1 ? 8.0 |
| 離子束流密度峰值 (mA/cm2) | 10 |
| 射束校準(zhǔn) | 使用熒光屏的精密光束校準(zhǔn) |
| 離子束直徑 | 可用氣體流量計(jì)或放電電壓來(lái)調(diào)節(jié) |
| 樣品臺(tái) | |
| 樣品尺寸（mm） | 3 或者 2.3 |
| 樣品夾持 | |
| 標(biāo)準(zhǔn) | DuoPost® |
| 可選 | 石墨臺(tái) |
| 轉(zhuǎn)速 (rpm) | 1 ? 6 |
| 離子束調(diào)制 | 角度范圍可調(diào)的單向調(diào)制或雙向調(diào)制 |
| X, Y 方向平移 (mm) | ±0.5 |
| 樣品觀察 | |
| Option 1 | 雙目顯微鏡 |
| Option 2 | 數(shù)碼變焦顯微鏡及 DM 軟件存儲(chǔ)（選配） |
| 真空系統(tǒng) | |
| 干泵系統(tǒng) | 80 L/s 的渦輪分子泵，具備兩級(jí)隔膜前級(jí)泵 |
| 壓力 (torr) | |
| 基本壓力 | 5 x 10-6 |
| 工作壓力 | 8 x 10-5 |
| 真空規(guī) | 冷陰極型，用于主樣品室；固體型，用于前級(jí)機(jī)械泵 |
| 樣品氣鎖 | WhisperLok,技術(shù)，樣品交換時(shí)間小于1 分鐘 |
| 用戶(hù)界面 | |
| 10 英寸彩色觸摸屏 | 操作簡(jiǎn)單，且能夠完整控制所有參數(shù)和配方式操作 |
| 尺寸及使用要求 | |
| 外形尺寸 (長(zhǎng) x 寬 x 高, mm) | 547 × 495×615 |
| 運(yùn)輸重量 (kg) | 45 |
| 功耗 (W) | |
| 運(yùn)行時(shí) | 200 |
| 待機(jī)時(shí) | 100 |
| 電源要求 | 通用 100/240 VAC, 50/60 Hz （用戶(hù)額定電壓和頻率） |
| 氬氣 (psi) | 25 |
訂貨編號(hào)：LR-200635
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