納米實驗室膠體磨，試驗室膠體磨，小型膠體磨，德國實驗室膠體磨，高轉速實驗室膠體磨，此款實驗室膠體磨比普通的膠體磨的速度達到4-5倍以上，研磨效果非常好，zui高轉速可以達到21000RPM。

納米實驗室膠體磨的研磨效果

響研磨粉碎結果的因素有以下幾點

2膠體磨磨頭頭的剪切速率（越大，效果越好）

3膠體磨頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

4物料在研磨腔體的停留時間，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

5循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率(s-1)= v速率(m/s)
g定-轉子間距(m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子間距。
IKN定-轉子的間距范圍為0.2~0.4mm

速率V=3.14XD（轉子直徑）X轉速RPM/60

納米實驗室膠體磨 ,實驗室中試型膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生 向下的螺旋沖擊力，透過定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

                  
納米實驗室中試型膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，實驗室中試型膠體磨用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質較多時也常常使用膠體磨進行細化。 物料粘度或固含量高導致不能正常進料和輸送時，須選用壓力或輸送泵進料或送料，輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。

CM2000/4納米實驗室中試型膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。 CM2000/4實驗室中試型膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。 CM2000/4實驗室中試型膠體磨的定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

公司另外一項*的創(chuàng)新，就是錐體磨CMO2000系列，它的設計使其功能在原有的CM2000的基礎上又進了一步。由于這項創(chuàng)新，CMO2000能夠濕磨和研磨，產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無級調節(jié)，從而可以得到的研磨參數(shù)。 
研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質材料是由碳化物、陶瓷等高質量物質構成，并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個具有強烈剪切的區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理但它的分散效果和zui后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。

           
它們的主要區(qū)別

CM2000/4（LP系列）為實驗室膠體磨的技術參數(shù)：功率1.5-2.2KW,轉速0-14000rpm,線速度 0-40m/s,電壓380V,機器產(chǎn)量為 0– 700 升/小時（水），重量35KG,尺寸 (長寬高）(450250350)MM，LP使用軸封（PTFE 環(huán)），在正常的情況下，一般軸封可以使用3000-4000次。LP不能24小時連續(xù)使用，一般zui多可以使用連續(xù)半個小時，這要依據(jù)料液的溫度和轉速而定。LP也可以通過變換模塊，可以實現(xiàn)多功能多用途。是中試生產(chǎn)的zuijia選擇。

CM2000/4（PP系列）為中試型膠體磨的技術參數(shù)：功率2.2-4 KW,轉速0-14000rpm,線速度 0-40m/s，電壓380V,機器產(chǎn)量為 0– 700 升/小時（水），重量45KG, 尺寸 (長寬高）((450250350)MM，PP使用雙機械密封，可24小時不停機連續(xù)生產(chǎn)，并通冷媒對密封部分進行冷卻。通過變換模塊，可以實現(xiàn)多功能多用途。機械密封和機械設計符合3A健康標準，是中試和小批量生產(chǎn)的zuijia選擇。