詳細(xì)介紹
Ultivo 是一款可疊放的三重四極桿液質(zhì)聯(lián)用系統(tǒng),通過將 MS 融入 LC 堆棧中,縮小 MS 占地面積。Ultivo 三重四極桿液質(zhì)聯(lián)用系統(tǒng)是一款革命性的 LC/TQ 產(chǎn)品,可提供大型同類系統(tǒng)的性能,但是體積僅為后者的幾分之一。
Vortex Collision Cell 渦流碰撞室、Cyclone Ion Guide 氣旋離子導(dǎo)軌和 VacShield 真空盾等創(chuàng)新技術(shù)可為用戶提供優(yōu)異的靈敏度、穩(wěn)定性、可靠性和性能,以應(yīng)對高通量樣品分析中日復(fù)一日的挑戰(zhàn)。現(xiàn)在,通過添加僅支持 ESI 的型號,以及可幫助您滿足 21 CFR Part 11 法規(guī)要求的功能,Ultivo LC/TQ 不斷重塑人們對質(zhì)譜儀的想象,證明了小巧體積同樣可以提供毫不打折的高性能。
Vortex Collision Cell 渦流碰撞室、Cyclone Ion Guide 氣旋離子導(dǎo)軌和 VacShield 真空盾等創(chuàng)新技術(shù)可為用戶提供優(yōu)異的靈敏度、穩(wěn)定性、可靠性和性能,以應(yīng)對高通量樣品分析中日復(fù)一日的挑戰(zhàn)。現(xiàn)在,通過添加僅支持 ESI 的型號,以及可幫助您滿足 21 CFR Part 11 法規(guī)要求的功能,Ultivo LC/TQ 不斷重塑人們對質(zhì)譜儀的想象,證明了小巧體積同樣可以提供毫不打折的高性能。
- 同類 LC/TQ 產(chǎn)品中體積..小,性價比..高,從而降低成本,快速實現(xiàn)投資回報
- 多種離子源配置可供選擇,包括安捷倫噴射流和傳統(tǒng) ESI
- 使用 VacShield 真空盾,在進(jìn)行離子導(dǎo)入系統(tǒng)維護(hù)時無需放空系統(tǒng),可..大程度縮短儀器維護(hù)停機(jī)時間,提升實驗室效率
- Cyclone Ion Guide 氣旋離子導(dǎo)軌可壓縮離子束而不造成信號損失,從而提高離子傳輸效率并改善數(shù)據(jù)質(zhì)量
- Vortex Collision Cell 渦流碰撞室可在池內(nèi)實現(xiàn)離子的高效解離,改善離子聚焦和傳輸,在離子對之間快速清洗碰撞池,從而每秒能采集更多 MRM、實現(xiàn)零交叉污染,以及通過去除背景噪音提高結(jié)果的可靠性
- 利用觸發(fā)式多反應(yīng)監(jiān)測 (tMRM) 進(jìn)行篩查、確認(rèn)和定量,該功能將快速、靈敏的 MRM 定量分析與產(chǎn)物離子譜圖生成相結(jié)合,用于化合物篩查和確認(rèn)
- 直觀的?Quant-My-Way?軟件和 MassHunter Productivity App 可將分析效率提升多達(dá) 40%,并且僅需少量的操作人員培訓(xùn),可縮短數(shù)據(jù)審查時間,簡化報告生成
- 增強(qiáng)型早期維護(hù)反饋 (EMF) 功能可實現(xiàn)智能的自我感知型診斷,從而..大程度延長正常運(yùn)行時間,有效降低維護(hù)成本
- 與 MassHunter 軟件、OpenLab ECM 3 系列(3.5 及更高版本軟件)以及 IQ/OQ 服務(wù)相結(jié)合,提供了數(shù)據(jù)可靠性工具,助您滿足合規(guī)性要求
IDL 靈敏度 |
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MRM 速率 |
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寬度 |
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尺寸(寬 x 深 x 高) |
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掃描速度 |
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..短 MRM 駐留時間 |
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極性切換速度 |
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深度 |
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碰撞池清洗時間 |
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離子源 |
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質(zhì)量數(shù)范圍 |
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高度 |
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