詳細(xì)介紹
產(chǎn)品介紹INTRODUCTION
軟件功能介紹
KYKY-SEM電鏡操作軟件純中文操作界面,模塊化布局。在滿足基本電鏡的操作功能外還具有一鍵看像,多點(diǎn)尺寸測(cè)量,電鏡圖片文字標(biāo)注,真空?qǐng)D顯示,CCD窗口顯示等強(qiáng)大的輔助功能,滿足不同用戶的個(gè)性化需求。
圖像處理軟件
特點(diǎn)FEATURES
分辨率高,成像質(zhì)量更好;
翻開式發(fā)叉結(jié)構(gòu)鎢絲陰極,更換燈絲方便;
純中文操作界面,具有一鍵成像功能;
自動(dòng)調(diào)整功能:電子槍加熱、偏壓、對(duì)中、聚焦、亮度、對(duì)比度、消像散、像散記憶等;
自動(dòng)校正、自動(dòng)故障檢測(cè);
低維護(hù)、維修成本。
附屬品ACCESSORY
附屬設(shè)備
X-射線能譜儀
用途
能譜儀(EDS)是用較細(xì)聚集的高能電子束照射樣品表面所需分析的微區(qū),激發(fā)出物質(zhì)的特征X射線,能譜儀用半導(dǎo)體探測(cè)器檢測(cè)X射線的能量并按其大小展譜,特征X射線的能量決定于組成該物質(zhì)的元素種類,強(qiáng)度決定元素的含量。
產(chǎn)品特點(diǎn)
◆ 電制冷硅偏移探測(cè)器;
◆ 超薄窗口,元素探測(cè)從Be開始
◆ 智能定量、智能元素面分布以及掃描等功能
◆ 安裝簡(jiǎn)單可靠
EBSD電子背散射衍射儀器
用途
掃描電子顯微鏡中電子背散射衍射儀能夠?qū)饘?,陶瓷顯微結(jié)構(gòu)織構(gòu)和取向差分析;晶粒尺寸及形狀分布分析;晶界、亞晶及孿晶界性質(zhì)分析;
產(chǎn)品特點(diǎn)
◆ 是在保留掃描電子顯微鏡的常規(guī)特點(diǎn)的同時(shí)進(jìn)行空間分辨率亞微米級(jí)的衍射(給出結(jié)晶學(xué)的數(shù)據(jù))。
制樣和輔助設(shè)備
SBC-12小型離子濺射儀
應(yīng)用領(lǐng)域
該儀器用于掃描電鏡的樣品表面處理。工作室工作媒介氣體:空氣或氬氣,配有氬氣專用進(jìn)氣口和微量充氣調(diào)節(jié),可以非標(biāo)定制。
SBC-2型多功能試樣表面處理機(jī)
應(yīng)用領(lǐng)域
離子噴涂、離子濺射、離子清洗、離子蒸碳、真空蒸金屬等工作。
SBC—16氬離子濺射儀
應(yīng)用領(lǐng)域
氬離子濺射儀通過氬離子轟擊靶材,從而在樣品表面進(jìn)行沉積的方式實(shí)現(xiàn)樣品制備,對(duì)靶材無選擇性,對(duì)樣品無傷害。另可以實(shí)現(xiàn)離子清洗和離子減薄等功能一機(jī)多能!
臨界點(diǎn)干燥儀
使用最多的臨界點(diǎn)干燥器(CPD)!
尺寸大小:內(nèi)徑:82 mm 內(nèi)部長(zhǎng)度:82 mm
配 件 :連接管、轉(zhuǎn)接閥、備件箱、配套蒸發(fā)皿、網(wǎng)籃套件
壓強(qiáng)范圍:0-2000psi
溫度范圍:0°-50° C(32°- 122° F)
應(yīng)用APPLICATIONS
多樣化的電鏡應(yīng)用定制方案
1.高低溫拉伸臺(tái)和微納機(jī)械手
掃描電鏡結(jié)合原位拉伸試驗(yàn)臺(tái)是一種能夠動(dòng)態(tài)觀測(cè)和分析材料微觀變形形貌和斷裂機(jī)制的手段;
利用掃描電鏡的大景深、高空間分辨和分析功能,在微觀層面上對(duì)材料的力學(xué)性能進(jìn)行動(dòng)態(tài)研究;
可以為多種材料做拉伸測(cè)試,如金屬材料、高分子材料、陶瓷材料等;
拉伸載荷:5000 N,可以實(shí)現(xiàn)-150 ℃~600 ℃溫度下拉伸測(cè)試。
掃描電鏡結(jié)合納米機(jī)械手,集合納米操作以及力學(xué)-電學(xué)性能同步測(cè)試功能于一體;
可以應(yīng)用于復(fù)雜微納米材料的原位機(jī)械力學(xué)性能測(cè)試和結(jié)構(gòu)觀察、微納米多自由度操作和精密組裝、微納米機(jī)器人及微納傳感器的力/電學(xué)分析等;
力學(xué)測(cè)量范圍從0.5 nN到200 mN,位移檢測(cè)范圍0.05 nm到21 mm。
2.電子束曝光(EBL)系統(tǒng)
以掃描電子顯微鏡為基礎(chǔ),配備激光精密工件臺(tái)和圖形發(fā)生器的新型納米曝光系統(tǒng),跟商品化電子束曝光機(jī)相比價(jià)格低廉;
無需改動(dòng)電子顯微鏡,保留顯微鏡的全部功能,用來制作納米級(jí)線寬的圖像,操作靈活,成本較低;
DY-2000A型納米通用圖形發(fā)生器是用于電子束曝光的關(guān)鍵設(shè)備;
該系統(tǒng)特別適用于微電子器件、量子器件、光電子器件、聲表面波器件、微電子系統(tǒng)的研究和開發(fā)。
3.掃描電鏡與激光聯(lián)用系統(tǒng)
根據(jù)客戶定制需求,在電子槍室和樣品倉(cāng)側(cè)面開口,用于激光引入;
電子槍室引入激光,照射到陰極上可產(chǎn)生光致發(fā)射電子束,用于表面成像、樣品處理等;
樣品倉(cāng)引入激光到樣品表面,用于樣品激發(fā)或樣品光致改性研究。
4.掃描電鏡與鍍膜機(jī)聯(lián)用系統(tǒng)
掃描電鏡與鍍膜系統(tǒng)聯(lián)用,真空環(huán)境內(nèi)完成樣品傳運(yùn)以及表面狀態(tài)、形貌及組成成分分析;
在線分析高活性材料表面離子濺射清洗效果及表面腐蝕的微觀過程;
本系統(tǒng)主要功能模塊包括:場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微系統(tǒng)、能譜儀、進(jìn)樣系統(tǒng),同時(shí)還可以配備多功能樣品臺(tái)。
5.掃描電鏡與掃描隧道顯微鏡(STM)/原子力顯微鏡(AFM)聯(lián)用系統(tǒng)
利用掃描電鏡放大倍數(shù)連續(xù)可調(diào)、長(zhǎng)工作距離、大景深、易于觀測(cè)粗糙樣品的特點(diǎn);
與STM/AFM結(jié)合,解決STM/AFM難于定位的難題;
首先使用掃描電鏡進(jìn)行選區(qū),然后控制探針到選定的微觀區(qū)域進(jìn)行細(xì)致成像;
實(shí)現(xiàn)從宏觀到微觀,從mm 范圍到nm 范圍,從粗造表面到光滑表面的直接觀察;
6.電子束焊機(jī)圖像系統(tǒng)
巧妙地利用焊機(jī)已有的一些部件,基于背散射電子成像,實(shí)現(xiàn)圖像功能;
數(shù)字化的圖像可以精確定位焊縫的位置,為跟蹤焊接軌跡,精確調(diào)整焊接參數(shù)提供了條件,
大大改善焊接過程和焊縫質(zhì)量;
這套圖像系統(tǒng)既可以用于配套生產(chǎn)新型的電子束焊機(jī),也可以用于升級(jí)改造舊的電子束焊機(jī)。