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詳細(xì)介紹
MW公司成立于1946年，總部位于德國(guó)Wetzlar(Zeiss和Leica總部所在地)，專門研發(fā)、生產(chǎn)、制造顯微鏡相關(guān)配件，包括顯微鏡平臺(tái)、電動(dòng)聚焦單元、玻片裝載裝置、顯微操作手、LED照明等產(chǎn)品，適用于Nikon, Olympus, Leica, Zeiss及Motic, Meiji等品牌的顯微鏡。
1. 基礎(chǔ)版、經(jīng)濟(jì)型
| 型號(hào) | BASIC EK 14 mot 76X30 | BASIC EK 14 mot 76X52 |
| 行程 | 76X30 | 76X52 |
| 重復(fù)精度 | <5um | <5um |
| 準(zhǔn)確度 | +/-20um | +/-20um |
| 分辨率 | ||
| 速度 | 120mm/s | 120mm/s |
2. 一體化（集成控制器、測(cè)量反饋裝置）
| 型號(hào) | ECO EK 75X50 Pilot |
| 行程 | 76X52 |
| 重復(fù)精度 | 1um（雙向） |
| 準(zhǔn)確度 | +/-3um |
| 分辨率 | 0.05um |
| 速度 | 120 mm/s |
3. 高精度（五年質(zhì)保）
| 型號(hào) | Scan 75X30 | Scan 75X50 | Scan 100X100 | Scan 150X150 | Scan 200X200 | Scan 300X300 |
| 行程 | 75X38 | 76X52 | 100X100 | 150X150 | 200X200 | 300X300 |
| 重復(fù)精度 | 1um（雙向） | 1um（雙向） | 0.2um | 0.2um | 1um(雙向) | 1um |
| 準(zhǔn)確度 | +/-3um | +/-3um | +/-3um | +/-3um | +/-3um | +/-5um |
| 分辨率 | 0.01um | 0.01um | 0.01um | 0.01um | 0.01um | 0.1um |
| 速度 | 60-240 mm/s | 25-50 mm/s | 60-240 mm/s | 120-240 mm/s | 60-240 mm/s | 60-240 mm/s |
4. 高精度，帶測(cè)量反饋裝置（五年質(zhì)保）
| 型號(hào) | Scan Plus 75X50 | Scan Plus 130X85 | Scan Plus 100X100 | Scan Plus 150X150 | Scan Plus 200X200 | Scan Plus 300X300 |
| 行程 | 76X52 | 130X85 | 100X100 | 150X150 | 200X200 | 300X300 |
| 重復(fù)精度 | 1um(雙向) | 1um(雙向) | 0.2um | 0.2um | 1um(雙向) | 1um（雙向） |
| 準(zhǔn)確度 | +/-1um | +/-1um | +/-1um | +/-1um | +/-1um | +/-1um |
| 分辨率 | 0.05um | 0.05um | 0.05um | 0.05um | 0.05um | 0.05um |
| 速度 | 50mm/s | 180mm/s | 120-240mm/s | 240mm/s | 240mm/s | 240 mm/s |
5. 電動(dòng)聚焦單元
| 型號(hào) | MFD MFD-2 MA 42 | Piezo Z stage納米位移臺(tái) |
| 行程 | 直接耦合在顯微鏡Z軸旋轉(zhuǎn)精細(xì)軸上
| 300um |
| 重復(fù)精度 | 4nm | |
| 準(zhǔn)確度 | 0.5% | |
| 分辨率 | 0.002um | 4nm |
| 速度 | 60 rev/s | Settling time 25ms 載重 500g |
6. 手動(dòng)平臺(tái)
除了電動(dòng)平臺(tái)，MW還提供手動(dòng)平臺(tái)，可帶游標(biāo)卡尺或數(shù)字測(cè)量裝置，可選行程100X100，150X150，200X200，300X300mm
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