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光學(xué)元件面型測(cè)量?jī)x

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更新時(shí)間:2022-11-06 09:10:47瀏覽次數(shù):350

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Kaleo MultiWave 光學(xué)元件面型測(cè)量?jī)x是一臺(tái)多波長(zhǎng)工作的光學(xué)元件面形測(cè)試系統(tǒng),用于替代昂貴、低效、操作復(fù)雜的干涉儀,測(cè)量光學(xué)元件的表面面形、透過(guò)波差等參數(shù)。

詳細(xì)介紹

Kaleo MultiWave 是一臺(tái)多波長(zhǎng)工作的光學(xué)元件面形測(cè)試系統(tǒng),用于替代昂貴、低效、操作復(fù)雜的干涉儀,測(cè)量光學(xué)元件的表面面形、透過(guò)波差等參數(shù)。

Kaleo MultiWave 通過(guò)單次測(cè)量即可提供完整的3-D形貌及非平面元件的曲率。所有表面質(zhì)量參數(shù)尊崇ISO 10110標(biāo)準(zhǔn)。表面不規(guī)則,粗糙度以及波紋亦可測(cè)試。

Kaleo MultiWave的多波長(zhǎng)測(cè)試功能可以在光學(xué)元件設(shè)計(jì)的工作波長(zhǎng)進(jìn)行測(cè)試,從而對(duì)光學(xué)元件基底、鍍膜獲得完整的評(píng)價(jià)。儀器具備和傳統(tǒng)干涉儀同等的精度,同時(shí)具備更大的動(dòng)態(tài)范圍以測(cè)試復(fù)雜面形的光學(xué)元件。測(cè)試以雙程模式工作,兼容透射與反射測(cè)量。

多波長(zhǎng)干涉儀:

同一機(jī)臺(tái),多個(gè)波長(zhǎng)

標(biāo)配:625nm - 780nm - 1050nm

可選:UV - 400nm - 1100nm - 短波紅外

高動(dòng)態(tài)范圍:

> 20um PV

高度畸變波前測(cè)試

高精度:

精度與干涉儀同等

高重復(fù)度,低噪聲

高性價(jià)比的干涉儀解決方案

規(guī)范:

遵從ISO 5725 標(biāo)準(zhǔn)

兼容MetroPro 格式

兼容 ISO 10110 格式

用途:

表面面形測(cè)試

鍍膜(AR,介質(zhì)膜,金屬膜測(cè)試......

窗片,干涉濾光片測(cè)試

透鏡,非平面鏡測(cè)試

應(yīng)用:

光學(xué)元件研發(fā)制造

濾光片及窗片制造

空間及防務(wù)

汽車(chē)工業(yè)

激光器及其應(yīng)用

光學(xué)元件面型測(cè)量?jī)xKALEO MultiWave技術(shù)指標(biāo):

光路結(jié)構(gòu)

雙通路

標(biāo)準(zhǔn)配置波長(zhǎng)

625, 780, 1050nm

可選波長(zhǎng)

400 - 1100nm,UV, IR

有效口徑

130mm

可重復(fù)性 (ISO 5725)

< 5nm rms

可再造性 (ISO 5725)

<7nm rms

動(dòng)態(tài)范圍 (失焦), RWE

10um PV

動(dòng)態(tài)范圍 (失焦), TWE

200nm rms

精度 (RWE)

<80nm rms

精度 (TWE)

<20nm rms

光學(xué)元件面型測(cè)量?jī)xKALEO MultiWave測(cè)試實(shí)例:

Fizeau干涉儀測(cè)試結(jié)果的比較

NBP-780濾光片測(cè)試。二者測(cè)量RWE的偏差小于40nm P-V

非球面鏡3-D面形

單次測(cè)量,無(wú)需空白透鏡??赏ㄟ^(guò)扣除理想曲面得知面形殘余誤差,從而獲知非球面鏡的加工質(zhì)量。

產(chǎn)線設(shè)備監(jiān)控

通過(guò)對(duì)塑料、樹(shù)脂模壓光學(xué)元件的直接測(cè)試,實(shí)時(shí)獲知加工效果,對(duì)模具狀態(tài)、工件調(diào)整精度等作出實(shí)時(shí)評(píng)價(jià)。


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