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LID光熱偏轉技術弱吸收儀

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更新時間:2022-10-26 14:35:56瀏覽次數:349

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產品簡介

弱吸收的意義在高功率激光系統(tǒng)中,光學鏡片的膜層及體材料吸收較大的話會引起以下熱透鏡效應進而產生一系列問題: 1.如下圖所示的焦距發(fā)生變化 2.波前畸變 3.退偏 4.膜層吸收是影響薄膜損傷閾值 的一個重要指標

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弱吸收儀測量意義

在高功率激光系統(tǒng)中,光學鏡片的膜層及體材料吸收較大的話會引起以下熱透鏡效應進而產生一系列問題:
1.如下圖所示的焦距發(fā)生變化
2.波前畸變
3.退偏
4.膜層吸收是影響薄膜損傷閾值 的一個重要指標

LID原理示意圖

此系統(tǒng)采用光熱偏轉技術,用于測量透明光學材料及鍍膜產品受到激光照射后產生的微弱吸收。在強激光照射下,材料內部由于吸收熱能產生折射率梯度現象(熱透鏡效應),當一束探測光經過“熱透鏡"效應區(qū)域時發(fā)生位置偏移,通過PSD位移傳感器測量其位置偏移量。

LID結構圖

LID技術參數一覽表

項目 LID
儀器原理 光熱偏轉技術
Pump激光器 UV到IR常見激光波長任選
光束質量要求不高,可以同時配置多臺激光器
不同波長光路切換簡單
Probe激光器 LD 640nm
儀器校準 電極校準 體吸收:樣品中間鉆孔放置棒型熱敏電 面吸收:表面放置熱敏電阻
測試項目 體吸收、HR及AR膜吸收

LID與PCI比較一覽表

項目 LID
樣品屬性要求 任何未知樣品或已知樣品
測試結果 吸收系數是值
區(qū)分面、體吸收 可以
樣品規(guī)格 方形,且四面拋光(采用sandwich模塊只需兩面拋光);
圓形:厚度1mm,φ25.4mm min:3x3x3mm(采用sandwich模塊)
通常:20x20x10mm
靈敏度 面吸收:0.1ppm 體吸收:0.1ppm/cm
測量速度 40min/片

LID校準-電極校準

采用電極校準得出校正因子Fcal, Ilid 為信號強度,Pl 為pump光功率。

特點:是無需了解樣品材料的特性,便可提供獨立校準。如果改變光熱偏轉系統(tǒng)裝置,需要客戶自己插入和連接校準樣品,利用軟件完成自動校準。


LID測量結果

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