詳細(xì)介紹
操作壓力:1.0Mpa(Mpa)
水電阻率:18MΩ·cm
出水量:500L/H
外形尺寸:160*100*160(cm)
電壓:380(V)
水質(zhì):0.55
功率:380(w)
電導(dǎo)率:0.06
脫鹽率:99.999(%)
超純水設(shè)備是既將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎*去除,又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水處理設(shè)備。半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。在光伏行業(yè)電子管生產(chǎn)中,如其中混入雜質(zhì),就會(huì)影響電子的發(fā)射,進(jìn)而影響電子管的放大性能及壽命,在顯像管和陰極射線管生產(chǎn)中,其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì),如其配制純水中含銅在8ppb以上,就會(huì)引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會(huì)使發(fā)光變色、變暗、閃動(dòng)并會(huì)造成氣泡、條跡、漏光點(diǎn)等廢次品。因此水的質(zhì)量相當(dāng)重要。集成電路的集成度越高,對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。
EDI高純水設(shè)備作為制取超純水的設(shè)備,作為反滲透設(shè)備后的二次除鹽設(shè)備,可以制取出高達(dá)10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業(yè),半導(dǎo)體工業(yè),發(fā)電工業(yè),制藥行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐的補(bǔ)給水,以及其它應(yīng)用高純水。