狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)由精心研制高精度精密型涂布試驗(yàn)機(jī),主要應(yīng)用于,在玻璃,硅片柔性基板上涂布鈣鈦礦,光電,催化溶液等材料。
由于常規(guī)實(shí)驗(yàn)室涂布試驗(yàn)機(jī),受到刮刀調(diào)節(jié),底板平整度等的影響很難達(dá)到涂布納米級(jí)膜,狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī),底板采用檢驗(yàn)級(jí)大理石平臺(tái),同時(shí)采用非接觸式狹縫式涂布頭,通過(guò)進(jìn)料壓力,狹縫寬度調(diào)節(jié),以及狹縫頭與底板間隙三個(gè)因數(shù)控制濕膜厚度,同時(shí)軟件系統(tǒng)增加了高度調(diào)節(jié)與反饋系統(tǒng),大大提高了涂布精度與均勻性。在國(guó)內(nèi)光學(xué)膜涂布實(shí)驗(yàn)室研發(fā)打樣階段得到了廣泛的應(yīng)用。
1.產(chǎn)品型號(hào):AT-XTB-40C
2.涂布方式:狹縫式涂布頭
3.涂布頭數(shù)量:2個(gè) (一個(gè)低粘3-300cps,一個(gè)高粘300-7000cps)
4.涂布寬度范圍:246mm(255mm刮刀寬度)
5.狹縫涂布頭上下移動(dòng)速度:1-100mm/min
6.涂布頭上下移動(dòng)距離:150mm
7.涂布頭上下移動(dòng)控制電機(jī):伺服電機(jī)
8.涂布頭與底板距離調(diào)節(jié)精度:0.002mm
9.刮刀距離控制方式:光電測(cè)距傳感器
10.涂布濕膜厚度范圍:5-100um
11.干膜厚度范圍: 2-20um (根據(jù)固含量不同干膜厚度范圍有偏差)
12.涂布固含量范圍:1-70%
13.粘度范圍:3-300CPS (柱塞泵) 300-7000CPS(齒輪泵)
14.進(jìn)樣速度范圍:1.8-18ml/min
15.涂布速度(橫向移動(dòng)):1-30mm/s 任意設(shè)定
16.涂膜均勻性:3-5%
17.涂布平臺(tái)材質(zhì):微孔陶瓷板
18.涂布平臺(tái)尺寸:160X150-400X260mm(兩個(gè)獨(dú)立真空區(qū)) 420X420mm外形尺寸
19.氣體凈化:上下FFU凈化單元,空氣灰塵凈化,操作區(qū)域封閉式
20.機(jī)體材質(zhì):主框架鋁合金,真空板模具鋼,機(jī)殼304不銹鋼
21.控制方式:觸摸屏
22.電器件:歐姆龍
23.電機(jī):匯川伺服
24.傳動(dòng)件:中國(guó)臺(tái)灣TBI
25.氣源壓力:0.6MPa
26.供液罐:有 自然/真空/正壓 三種方式
27.設(shè)備總功率:1000W
28.設(shè)備尺寸:900mmX480mmX450mm
29.電源電壓:220V 50 Hz
1.采用滾珠絲杠傳動(dòng),運(yùn)行平穩(wěn)性更好
2.速度數(shù)字化可調(diào),可以根據(jù)需要選擇合適的速度.
3.高精度國(guó)產(chǎn)涂布頭,加料方便,涂布精度高,均勻性好
4.觸摸屏控制,自動(dòng)化程度高,涂布距離可設(shè)定,有效保證了涂布試樣的尺寸。