一、產(chǎn)品名稱:油性石墨漿料納米研磨分散機,油性石墨漿料納米分散機,油性石墨漿料納米研磨機,油性石墨漿料納米膠體磨,石墨烯漿料納米分散機
二、石墨烯漿料分類
石墨烯漿料分為兩種,以水為介質(zhì)分散叫水性,以NMP為介質(zhì)分散叫油性,石墨烯根據(jù)石墨烯原料的不同,一般含量在2.5-5的固含量之間打成漿料,影響石墨烯分散或者剝離的因素有很多,設(shè)備的選型,分散劑的使用,固含量的把握。
三、石墨烯的主要制備方法
石墨烯主要制備方法:制備石墨烯常見的方法為機械剝離法、氧化還原法、SiC外延生長法和化學(xué)氣相沉積法(CVD)。
1.機械剝離法是利用物體與石墨烯之間的摩擦和相對運動,得到石墨烯薄層材料的方法。這種方法操作簡單,得到的石墨烯通常保持著完整的晶體結(jié)構(gòu),但是得到的片層小,生產(chǎn)效率低。
2.氧化還原法是通過將石墨氧化,增大石墨層之間的間距,再通過物理方法將其分離,然后通過化學(xué)法還原,得到石墨烯的方法。這種方法操作簡單,產(chǎn)量高,目前國內(nèi)使用氧化,還原法制作石墨烯漿料的。
3.SiC外延法是通過在超高真空的高溫環(huán)境下,使硅原子升華脫離材料,剩下的C原子通過自組形式重構(gòu),從而得到基于SiC襯底的石墨烯。這種方法可以獲得高質(zhì)量的石墨烯,但是這種方法對設(shè)備要求較高
4.CVD也叫氣相沉積法是目前很有可能實現(xiàn)工業(yè)化制備高質(zhì)量、大面積石墨烯的方法。這種方法制備的石墨烯具有面積大和質(zhì)量高的特點,國內(nèi)用氣相沉積法制作石墨烯漿料的如 重慶墨稀、常州第六元素等企業(yè)
四、SGN石墨烯漿料納米研磨分散機特點
1、GMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到更低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
2、GMD2000研磨分散機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,GMD2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
五、GMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):
研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
六、油性石墨漿料納米研磨分散機設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |