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多晶硅刻蝕單通道chiller 刻蝕工序制冷

參考價	￥ 158674
訂貨量	≥1臺

具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司
品牌冠亞制冷
型號FLT-002
所在地無錫市
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時間2023/12/12 9:57:00
訪問次數(shù)272

產(chǎn)品標簽:

半導體?溫控設備半導體溫控設備chiller 氣體降溫控溫Chiller 半導體直冷機chiller 射流式高低溫沖擊測試機

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無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司是一家集研發(fā)、生產(chǎn)和銷售為一體的GAO端裝備制造企業(yè)，專業(yè)生產(chǎn)研發(fā)制冷加熱控溫系統(tǒng)、超低溫冷凍機、半導體控溫Chiller、新能源用控溫控流量系統(tǒng)等專用設備，廣泛應用于醫(yī)藥化工、半導體、新能源、儲能、數(shù)據(jù)中心、太陽能光伏等領域。

無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司擁有數(shù)位在超低溫、高低溫開發(fā)方面具有豐富經(jīng)驗的高素質(zhì)專業(yè)設計人員的研發(fā)隊伍。特別是反應釜高精度控溫為單一介質(zhì)控制-90度～+250度連續(xù)控溫，并且高精度線性控制反應釜物料溫度。產(chǎn)品溫度范圍涉及-152度到350度。

門頭.jpg

我們的成功源自于不懈地幫助客戶提高生產(chǎn)力。

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制冷加熱循環(huán)器、加熱制冷控溫系統(tǒng)、反應釜溫控系統(tǒng)、加熱循環(huán)器、低溫冷凍機、低溫制冷循環(huán)器、冷卻水循環(huán)器、工業(yè)冷處理低溫箱、超低溫保存箱、藥品穩(wěn)定性測試箱、試驗箱、培養(yǎng)箱、加熱制冷恒溫槽等設備。

產(chǎn)品簡介在線詢價

產(chǎn)地	國產(chǎn)	產(chǎn)品大小	小型
產(chǎn)品新舊	全新	結構類型	半封閉式,立式
結構類型	半封閉式,立式	溫度	低溫冷水機

【無錫冠亞】半導體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備，?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。多晶硅刻蝕單通道chiller 刻蝕工序制冷

多晶硅刻蝕單通道chiller 刻蝕工序制冷產(chǎn)品信息

無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司的半導體控溫解決方案

主要產(chǎn)品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備，

?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。

半導體行業(yè)主營控溫產(chǎn)品：

半導體專溫控設備

射流式?低溫沖擊測試機

半導體專用溫控設備chiller

Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)

Chiller直冷型

循環(huán)風控溫裝置

半導體?低溫測試設備

電?設備?溫低溫恒溫測試冷熱源

射流式高低溫沖擊測試機

快速溫變控溫卡盤

數(shù)據(jù)中心液冷解決方案

型號	FLT-002	FLT-003	FLT-004	FLT-006	FLT-008	FLT-010	FLT-015
型號	FLT-002W	FLT-003W	FLT-004W	FLT-006W	FLT-008W	FLT-010W	FLT-015W
溫度范圍	5℃～40℃
控溫精度	±0.1℃
流量控制	10～25L/min 5bar max		15～45L/min 6bar max			25～75L/min 6bar max
制冷量at10℃	6kw	8kw	10kw	15 kw	20kw	25kw	40kw
內(nèi)循環(huán)液容積	4L	5L	6L	8L	10L	12L	20L
膨脹罐容積	10L	10L	15L	15L	20L	25L	35L
制冷劑	R410A
載冷劑	硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等（DI溫度需要控制10℃以上）
進出接口	ZG1/2	ZG1/2	ZG3/4	ZG3/4	ZG3/4	ZG1	ZG1
冷卻水口	ZG1/2	ZG1/2	ZG3/4	ZG1	ZG1	ZG1	ZG1 1/8
冷卻水流量at20℃	1.5m3/h	2m3/h	2.5m3/h	4m3/h	4.5m3/h	5.6m3/h	9m3/h
電源380V	3.5kW	4kW	5.5kW	7kW	9.5kW	12kW	16kW
溫度擴展	通過增加電加熱器，擴展-25℃～80℃

790卡盤_01.jpg

液冷790_01.jpg

多晶硅刻蝕單通道chiller 刻蝕工序制冷

多晶硅刻蝕單通道chiller 刻蝕工序制冷

半導體專用溫控設備（Chiller）主要用于半導體制造過程中準確控制反應室的溫度。半導體專用溫控設備利用制冷循環(huán)和工藝冷卻水的熱交換原理通過對半導體工藝設備使用的循環(huán)液的溫度、流量和壓力進行控制，以實現(xiàn)半導體工藝制程的控溫需求，是集成電路制造過程中*關鍵設備。

半導體行業(yè)控溫解決方案-溫控系統(tǒng)

?錫冠亞恒溫制冷技術有限公司是?家集研發(fā)、?產(chǎn)和銷售為?體的?端裝備制造企業(yè)，主要產(chǎn)品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等專?設備，?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。

Chiller直冷型

溫度控制范圍：-150℃ 至 -15℃

將制冷系統(tǒng)中的制冷劑直接輸出蒸發(fā)進??標控制元件（換熱器）換熱，從?使?標控制對象降溫。具備換熱能?相對于流體（?體）輸送?換熱器換熱能?更??般在5倍以上，這樣特別適?于換熱器換熱?積?，但是換熱量?的運?場所。也可以如?體捕集運?，將制冷劑直接通?捕集器蒸發(fā)，通過捕集器表?冷凝效應，迅速捕集空間中的?體。